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標簽 > 光刻機
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EUV 產(chǎn)量到位了,是不是也該考慮良率了? ? 在當前的半導(dǎo)體制程不斷往7nm以下發(fā)展時,EUV光刻機就成了IDM和代工廠必不可少的工具之一。隨著臺積電...
繼正式推出鴻蒙系統(tǒng)之后,近期,華為有大動作,旗下公司哈勃入股了由中科院微電子所控股的北京科益虹源公司,認繳金額達960萬元,占股4.76%。
美國媒體7月19日報道,美國政府正在努力阻止荷蘭ASML EUV光刻機(極紫外光刻機)進入中國大陸。 報道稱,中國政府此前與荷蘭政府協(xié)商,要求允許中國公...
2021-07-21 標簽:光刻機 2370 0
光刻機,是現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,是半導(dǎo)體行業(yè)中的核心技術(shù)。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光...
對于中芯國際來說,留住梁孟松應(yīng)該是沒有懸念的事情了。6月25日,中芯國際召開了2021年第一次臨時股東大會,其中將授予梁孟松40萬股限制性股票,市值約2...
中國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究院電子信息研究所所長溫曉君在接受環(huán)球網(wǎng)記者采訪時表示,國產(chǎn)14nm芯片明年底可以實現(xiàn)量產(chǎn),國產(chǎn)芯片已經(jīng)迎來最好的時刻?!罢J同行業(yè)...
6月17日,A股芯片股全線大漲,多只股票漲停或封板,科創(chuàng)50指數(shù)漲幅也一度擴大至5%。芯片股成了當天資本市場的主角。 同時,從去年開始,社會各路資本流入...
第三代半導(dǎo)體技術(shù)、材料、設(shè)備與市場論壇2021在長沙召開
據(jù)彭博社報道,該計劃已預(yù)留約1萬億美元的政府資金,其中一部分將由中央和地方政府共同投資一系列第三代芯片項目,項目內(nèi)容還包括發(fā)展中國大陸本土芯片設(shè)計軟件和...
來源:內(nèi)容由半導(dǎo)體行業(yè)觀察(ID:icbank)編譯自「seekingalpha」,謝謝。 在科技行業(yè),在硬件方面最受關(guān)注的公司是英偉達、蘋果、高通和A...
本文將帶你一起體驗芯片的制造過程。 制造芯片需要在晶圓片上不斷累加圖案,這些圖案縱向連接,可達100多層。 芯片的制造包含數(shù)百個步驟,從設(shè)計到量產(chǎn)可能需...
高通創(chuàng)投VS華為哈勃科技,誰能精準布局芯片和5G賽道的未來?
今年前5個月,高通創(chuàng)投和華為哈勃投資都在中國本土不斷落子,這兩家性格迥異的5G行業(yè)的全球領(lǐng)先公司,在投資賽道、投資成績和投資思路的側(cè)重到底各有什么不同?...
第二代EUV光刻機原本預(yù)計最快可以2023年問世,但最新傳聞稱NXE:5000系列跳票,而且一下子就跳票三年,要到2025-2026年才有可能問世了。 ...
天眼查顯示,6月7日,華為數(shù)字能源技術(shù)有限公司成立,法定代表人為胡厚崑,注冊資本30億元人民幣,經(jīng)營范圍包括在線能源計量技術(shù)研發(fā)、新興能源技術(shù)研發(fā)、能量...
科益虹源的名字并不為產(chǎn)業(yè)外的人熟悉,該公司的控股股東是中科院微電子所,持股26.6%,主要業(yè)務(wù)就是光刻機中的三大核心技術(shù)之一的光源系統(tǒng),是國內(nèi)第一、全球...
SEMI發(fā)布了半導(dǎo)體設(shè)備市場年終預(yù)測報告
相比于今年的狀況,2019年明顯疲軟。據(jù)統(tǒng)計,2019年全球排名前10的半導(dǎo)體設(shè)備商的總銷售額為590.4億美元,與2018年的615.4億美元相比,下...
2021-05-18 標簽:晶圓代工光刻機半導(dǎo)體設(shè)備 2679 0
全球排名靠前的半導(dǎo)體設(shè)備廠商之間的市場爭奪戰(zhàn)劍拔弩張
應(yīng)用材料的這一加價舉措,充分說明了當下半導(dǎo)體市場的火熱程度,據(jù)SEMI統(tǒng)計,2020年全球半導(dǎo)體設(shè)備出貨成績非常亮眼,且在接下來的2021和2022年,...
2021-05-18 標簽:光刻機ASML半導(dǎo)體設(shè)備 5457 0
目前,距離2nm試產(chǎn)還有一段時間,各方面都在積極籌備當中,圍繞著晶圓廠臺積電,各大半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商、材料工藝服務(wù)商、EDA工具廠商,以及主要客戶,都開始...
預(yù)計到2023年,ASML公司的EUV光刻機帶來的收入將比2020年的收入翻一番
根據(jù)我們題為“ Sub 100nm光刻:市場分析和戰(zhàn)略問題”的報告,圖1顯示了ASML的EUV收入(藍線)在2020財年超過了其DUV浸沒式設(shè)備的收入(...
ASML展示了有關(guān)其深紫外線和極紫外線曝光系統(tǒng)的最新信息
隨著三星和臺積電在7nm和5nm邏輯生產(chǎn)以及三星在1z DRAM生產(chǎn)中加大對標準0.33數(shù)值孔徑(NA)系統(tǒng)的使用,EUV曝光的晶圓數(shù)量正在迅速增長
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