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上海昊量光電設備有限公司

上海昊量光電設備有限公司是目前國內知名光電產品專業代理商,也是近年來發展迅速的光電產品代理企業。

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上海昊量光電設備有限公司文章

  • 光譜可調光源在消費電子傳感器調試及測試的應用介紹2024-08-01 08:16

    背景介紹消費電子產品廣泛的應用在日常生活的方方面面,包括手機、筆記本電腦、平板電腦、智能手表等等。消費電子中通常會包含各類傳感器用于感知設備周圍環境參數。包括環境光傳感器,接近傳感器,頻閃傳感器等。環境光傳感器可以檢測周圍的光源強度,并根據檢測結果自動調節屏幕亮度,它還可以調整相機曝光、白平衡參數,控制屏幕自動旋轉和調整環境照明等。接近傳感器用于檢測設備與物
  • Moku:Lab應用于雙光頻梳鎖定實現高效精準測距2024-07-31 08:16

    光學頻率梳(OFC)已經成為精確測量頻率和距離的重要工具,已經在LiDAR、微納器件的3D表面輪廓和引力波探測等領域被廣泛應用。典型的OFC測量涉及許多的飛行時間檢測,它通過檢測激光脈沖從物體反射并返回探測器(通常是光學干涉儀)所需的時間來測定到物體或表面的距離。雖然測量概念很簡單,但要同時精確且快速地完成測量極具挑戰,通常需要犧牲其中一項。近期,中科院西安
  • 光通信時代的引領者:光子晶體光纖2024-07-26 08:16

    摘要光子晶體光纖(photoniccrystalfiber,簡稱PCF),又被稱為多孔或微結構光纖。光子晶體光纖是一種新型光纖結構,利用光子晶體的周期性結構來控制和引導光信號的傳輸。光子晶體光纖具有許多獨特的光學特性,使其在光通信、光傳感和光子學領域具有廣泛的應用前景。與傳統的光纖相比,光子晶體光纖具有更大的波導帶寬、更低的傳輸損耗和更高的靈活性。光子晶體光
  • 搭建光學相干斷層掃描(OCT)系統您需要知道2024-07-18 08:16

    搭建光學相干斷層掃描(OCT)系統您需要知道!光學相干斷層掃描(OCT)系統的搭建需要光學和機械、信號和圖像處理等背景知識、一定的編程能力、以及大量的時間投入。使用現成的OCT光譜儀作為起始組件可以大大加快和簡化這一過程,并提高收集到的圖像的質量,在這篇技術說明中,我們將向您介紹搭建光學相干斷層掃描系統的一些關鍵原理和光路,并分享我們技術專家的一些建議,希望
    3D成像 OCT 光譜儀 1228瀏覽量
  • OCT在無損檢測中的應用舉例2024-07-18 08:16

    光學斷層掃描成像(OCT)利用紅外光提供表面輪廓和次表面結構及均勻性的信息,提供比超聲波檢測更高的分辨率和更快的圖像速度。該新型無損檢測(NDT)技術無需接觸或耦合介質,能夠實時提供精確的信息,用于現場過程反饋和成品的高通量質量控制。光學斷層掃描成像(OCT)在無損檢測中的主要優勢為:高分辨率:2.6-10.0µm視頻速率采集:每秒30張圖像成像深度:高達5
    OCT 無損檢測 超聲波 763瀏覽量
  • 使用800nm OCT光譜儀實現超深OCT成像2024-07-18 08:16

    使用800nmOCT光譜儀實現超深OCT成像傳統上,OCT成像需要使用更長的波長來探測單次掃描中超過幾毫米的深度,但波長超過1100nm之后,就需要使用InGaAs探測器相機作為探測元件了,這是的整個OCT光譜儀的成本大幅增加。為此,美國Wasatch公司開發了一種擁有專利的獨特光譜儀設計,使其能夠使用800nmOCT光譜儀實現高達12毫米的成像深度,為長距
  • OCT:從原理到關鍵參數2024-07-18 08:16

    一、什么是OCT?光學相干斷層掃描(OCT)是一種三維成像技術,可以在散射介質中進行高分辨率成像,無需接觸樣品或使用任何耦合介質。OCT的橫向成像分辨率可達到幾微米,成像深度可達幾毫米。OCT能夠提供樣品表面輪廓和次表面結構(即表面以下的結構)及樣品均勻性的信息,從而實時提供準確的信息用于診斷、監測和現場過程反饋。因此,OCT已經在眼科、皮膚科、血管造影等生
    3D圖像 OCT 三維成像 4203瀏覽量
  • 東南大學利用Moku:Pro跟蹤MEMS應用諧振頻率并穩定輸出信號幅值2024-07-11 08:16

    簡介與挑戰微機電系統(MEMS)利用硅的電學和機械特性,將機械結構和電子結構集成在一起,用于檢測加速度、旋轉、角速度等。MEMS設備的核心組件包括一個垂直懸掛于設備運動方向的質量塊,在其框架內驅動方向上共振。通過測量框架在感應方向上的運動,可以檢測到由旋轉運動引起的科里奧利加速度。圖1:一個質量塊懸掛在可水平移動的中心框上。通過測量框架的運動,可以感知科里奧
  • 基于SPAD單光子相機的LiDAR技術革新2024-07-04 08:16

    單光子光探測和測距(激光雷達)是在復雜環境中進行深度成像的關鍵技術。盡管最近取得了進展,一個開放的挑戰是能夠隔離激光雷達信號從其他假源,包括背景光和干擾信號。本文介紹了一種基于量子糾纏光子對的LiDAR(光探測與測距)技術,該技術通過利用時空糾纏光子對及SAPD單光子相機的特性,顯著提高了在復雜環境中的探測精度和抗干擾能力。該技術使用SPAD單光子相機作為探
    LIDAR 單光子 相機 1395瀏覽量
  • 激光指向穩定在光刻系統應用中的關鍵作用及其優化方案2024-06-27 08:16

    光刻是半導體制造工藝中的核心之一,極紫外光刻技術作為新一代光刻技術也處于快速發展階段。其基本原理是利用光致抗蝕劑(或稱光刻膠)感光后因光化學反應而形成耐蝕性的特點,將掩模板上的圖形刻制到被加工表面上。光刻半導體芯片二氧化硅的主要步驟包括涂布光致抗蝕劑、套準掩模板并曝光、用顯影液溶解未感光的光致抗蝕劑層、用腐蝕液溶解掉無光致抗蝕劑保護的二氧化硅層,以及去除已感
    光刻 半導體 激光 芯片 844瀏覽量