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三星揭露3納米制程技術路線圖以及7納米投產進度

半導體動態 ? 來源:網絡整理 ? 作者:工程師吳畏 ? 2018-09-05 14:40 ? 次閱讀
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三星周二舉行晶圓代工技術論壇(Samsung Foundry Forum),同時揭露發展3納米制程的技術路圖,以及7納米投產進度,將搶攻高端運算與聯網裝置市場。

三星晶圓代工部門總裁鄭恩昇(E.S. Jung)表示,3納米制程將首度導入閘極全環(GAA)電晶體,這是下一世代電晶體架構,并將配合極紫外光(EUV)微影設備,來克服物理限制。(cdrinfo.com)

三星7納米是第一個采用EUV技術的半導體制程,按計劃將在2018下半年投產。據三星表示,關鍵知識產權(IP)已在開發,將于2019年上半年完成。

有趣的是,三星表示7納米將應用在網絡、汽車領域,而非效能要求較高的繪圖處理器(GPU),意謂著三星7納米技術似乎未能獲得Nvidia與超微青睞。

超微日前已宣布下一世代Zen 2中央處理器與Navi繪圖處理器,都將交予臺積電以7納米制程代工。

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