近日，由上海市普陀區(qū)人民政府、中國證券報(bào)等機(jī)構(gòu)聯(lián)合主辦的“2025科技金融與產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新大會(huì)”在上海普陀區(qū)隆重舉行。中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱“中微公司”，股票代碼：688012）董事長(zhǎng)兼總經(jīng)理尹志堯博士受邀出席大會(huì)，并以《技術(shù)的創(chuàng)新，產(chǎn)品的差異化和知識(shí)產(chǎn)權(quán)的保護(hù)》為題做了主題演講，分享在產(chǎn)業(yè)發(fā)展與技術(shù)創(chuàng)新等方面的前沿洞察。大會(huì)還向中微公司頒發(fā)了“科創(chuàng)金牛獎(jiǎng)·高端裝備”獎(jiǎng)項(xiàng)，表彰其在半導(dǎo)體高端裝備領(lǐng)域取得的卓越成績(jī)。

在大會(huì)主題演講環(huán)節(jié)，尹志堯博士談到，數(shù)碼產(chǎn)業(yè)和傳統(tǒng)工業(yè)已經(jīng)成為國民經(jīng)濟(jì)的兩大支柱。數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的發(fā)展正在徹底改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。近年隨著人工智能、云計(jì)算、大數(shù)據(jù)、自動(dòng)駕駛等新興產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步加速發(fā)展，半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備作為數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵基石，其市場(chǎng)高速發(fā)展。“半導(dǎo)體行業(yè)的未來，制造設(shè)備是關(guān)鍵”，沒有能加工微米及納米級(jí)微觀器件的光刻機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、薄膜沉積等設(shè)備，就沒有集成電路和微器件工業(yè)，數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的發(fā)展也將受到極大制約，而復(fù)雜的國際局勢(shì)更突顯了“設(shè)備強(qiáng)，則數(shù)碼強(qiáng)，設(shè)備弱，則數(shù)碼弱”的道理和半導(dǎo)體設(shè)備自主可控的重要性。

作為硬科技企業(yè)的代表，尹志堯在會(huì)上談及技術(shù)創(chuàng)新、產(chǎn)品差異化和知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)時(shí)表示：“我們的原則是不抄襲，不復(fù)制國際標(biāo)配設(shè)備，要學(xué)習(xí)和搞懂世界第一和第二設(shè)備產(chǎn)品的優(yōu)劣。總可以想出辦法，綜合第一和第二設(shè)備產(chǎn)品的優(yōu)點(diǎn)，避免缺點(diǎn)，開發(fā)出比第一和第二設(shè)備更好的產(chǎn)品。下一步，要開發(fā)更好的產(chǎn)品，超越自己。”

在頒獎(jiǎng)環(huán)節(jié)，大會(huì)向中微公司頒發(fā)了“科創(chuàng)金牛獎(jiǎng)·高端裝備”獎(jiǎng)項(xiàng)。該獎(jiǎng)由中國證券報(bào)主辦，旨在表彰在八大戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)中具有突出科技含量、產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)化能力及成長(zhǎng)前景的領(lǐng)軍企業(yè)。中微公司作為科創(chuàng)板首批上市企業(yè)，近年來在刻蝕設(shè)備、薄膜設(shè)備等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)多項(xiàng)技術(shù)突破，在高端裝備領(lǐng)域的“硬科技”實(shí)力與行業(yè)標(biāo)桿地位再次獲得榮譽(yù)褒獎(jiǎng)。

未來，中微公司將緊跟先進(jìn)制程發(fā)展的最前沿，堅(jiān)持三維立體發(fā)展戰(zhàn)略，通過有機(jī)成長(zhǎng)和外延擴(kuò)展，踐行科創(chuàng)企業(yè)的“五個(gè)十大”，實(shí)現(xiàn)高速、穩(wěn)定、健康和安全的高質(zhì)量發(fā)展，盡早在規(guī)模和競(jìng)爭(zhēng)力上成為國際一流的半導(dǎo)體設(shè)備公司！

關(guān)于中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司

中微半導(dǎo)體設(shè)備（上海）股份有限公司（證券簡(jiǎn)稱：中微公司，證券代碼：688012）致力于為全球集成電路和LED芯片制造商提供領(lǐng)先的加工設(shè)備和工藝技術(shù)解決方案。中微公司開發(fā)的CCP高能等離子體和ICP低能等離子體刻蝕兩大類，包括十幾種細(xì)分刻蝕設(shè)備已可以覆蓋大多數(shù)刻蝕的應(yīng)用。中微公司的等離子體刻蝕設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于國內(nèi)和國際一線客戶，從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應(yīng)用。中微公司最近十年著重開發(fā)多種導(dǎo)體和半導(dǎo)體化學(xué)薄膜設(shè)備，如MOCVD，LPCVD，ALD和EPI設(shè)備，并取得了可喜的進(jìn)步。中微公司開發(fā)的用于LED和功率器件外延片生產(chǎn)的MOCVD設(shè)備早已在客戶生產(chǎn)線上投入量產(chǎn)，并在全球氮化鎵基LED MOCVD設(shè)備市場(chǎng)占據(jù)領(lǐng)先地位。此外，中微公司也在布局光學(xué)和電子束量檢測(cè)設(shè)備，并開發(fā)多種泛半導(dǎo)體微觀加工設(shè)備。這些設(shè)備都是制造各種微觀器件的關(guān)鍵設(shè)備，可加工和檢測(cè)微米級(jí)和納米級(jí)的各種器件。這些微觀器件是現(xiàn)代數(shù)碼產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)，它們正在改變?nèi)祟惖纳a(chǎn)方式和生活方式。在美國TechInsights（原VLSI Research）近五年的全球半導(dǎo)體設(shè)備客戶滿意度調(diào)查中，中微公司三次獲得總評(píng)分第三，薄膜設(shè)備三次被評(píng)為第一。