TGV（Through Glass Via）和TSV（Through Silicon Via）是兩種用于實(shí)現(xiàn)不同層面之間電氣連接的技術(shù)。

TGV技術(shù)通過(guò)在玻璃基板上制作垂直貫通的微小通孔，并在通孔中填充導(dǎo)電材料，實(shí)現(xiàn)電氣連接。TGV以高品質(zhì)硼硅玻璃、石英玻璃為基材，通過(guò)一系列工藝步驟如種子層濺射、電鍍填充、化學(xué)機(jī)械平坦化等實(shí)現(xiàn)3D互聯(lián)。這種技術(shù)具有優(yōu)良的高頻電學(xué)特性，機(jī)械穩(wěn)定性強(qiáng)，且制作成本相對(duì)較低。TGV在光通信、射頻、微波、微機(jī)電系統(tǒng)、微流體器件和三維集成領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用前景。

TSV技術(shù)則是在硅晶圓上制作垂直貫通的微小通孔，并在通孔中填充導(dǎo)電材料，實(shí)現(xiàn)芯片內(nèi)部不同層面之間的電氣連接。這種技術(shù)能夠顯著提高芯片內(nèi)部的互連密度，降低信號(hào)傳輸延遲，提高系統(tǒng)的整體性能。TSV技術(shù)廣泛應(yīng)用于存儲(chǔ)器、處理器、圖像傳感器等高性能芯片中，如用于堆疊式DRAM的制作，實(shí)現(xiàn)更高的存儲(chǔ)容量和更快的數(shù)據(jù)傳輸速度。

TGV的主要工藝步驟包括：

1. 基板準(zhǔn)備：選擇合適的玻璃基板，基板需要具備良好的尺寸穩(wěn)定性、熱膨脹系數(shù)匹配性和電學(xué)性能。

2. 孔洞制作：通過(guò)激光加工、化學(xué)腐蝕或機(jī)械加工等方法，在玻璃基板上制作微小孔洞，用于連接芯片和外部電路。

3. 金屬填充：在孔洞中填充金屬材料，通常使用銅、銀或金等導(dǎo)電性能良好的材料。

4. 磨平與拋光：通過(guò)研磨和拋光等工藝，將填充金屬與基板表面磨平，確保信號(hào)傳輸?shù)目煽啃院头庋b的平整度。

5. 電鍍：在填充金屬的表面進(jìn)行電鍍，增加導(dǎo)電性能和保護(hù)層。

6. 后處理：進(jìn)行封裝后的檢測(cè)和測(cè)試，確保TGV封裝的質(zhì)量和可靠性，并進(jìn)行封裝外觀的檢查和包裝工藝的處理。

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而TSV的主要工藝步驟則包括：

1. 硅基底準(zhǔn)備：通常以覆蓋有二氧化硅(SiO?)層的硅基底開始，這層SiO?可以通過(guò)熱氧化或等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)方法形成。

2. 光刻：在SiO?層上涂布光刻膠，然后通過(guò)曝光和顯影步驟進(jìn)行圖案化，以定義硅蝕刻的區(qū)域。

3. 硅蝕刻：使用光刻圖案作為掩模，在硅基底中蝕刻出通孔。

4. 去除光刻膠：蝕刻完成后，去除光刻膠，為接下來(lái)的層沉積步驟做準(zhǔn)備。

5. 沉積絕緣層和阻擋層：在孔壁上沉積一層二氧化硅作為絕緣層，防止電子竄擾；然后沉積一層導(dǎo)電的阻擋層，以便后續(xù)的銅鍍層能更好地附著，并防止電子遷移。

6. 銅電鍍：在絕緣層和阻擋層上進(jìn)行銅鍍層，填充TSV孔洞。

7. 退火：電鍍完成后，進(jìn)行退火工序，釋放應(yīng)力。

玻璃，尤其是用于電路板的玻璃基材，因其高硬度、高溫穩(wěn)定性、低熱膨脹系數(shù)和優(yōu)異的絕緣性能而表現(xiàn)出色。這些特性使得玻璃基材電路板能夠在高溫環(huán)境下穩(wěn)定工作，并具備較好的機(jī)械強(qiáng)度和穩(wěn)定性。在信號(hào)完整性方面，玻璃基材的低介電常數(shù)和低損耗角正切意味著信號(hào)在電路板上傳輸時(shí)損耗較小，從而提供了更好的信號(hào)完整性和較低的信號(hào)衰減。

硅，作為半導(dǎo)體材料，在微電子行業(yè)中占據(jù)核心地位。硅基芯片和器件的制造對(duì)于現(xiàn)代電子設(shè)備至關(guān)重要。在信號(hào)完整性方面，硅材料的高純度、穩(wěn)定性和可控性是關(guān)鍵因素。通過(guò)精確的工藝控制和設(shè)計(jì)，硅基芯片能夠?qū)崿F(xiàn)高速、低噪聲和低失真的信號(hào)傳輸，確保信號(hào)的完整性和準(zhǔn)確性。

TSV和TGV 工藝成本

TSV（Through Silicon Via，硅通孔）和TGV（一種玻璃基巨量互通技術(shù)）是兩種不同的封裝技術(shù)，它們各自具有獨(dú)特的成本結(jié)構(gòu)和特點(diǎn)。

TSV技術(shù)的成本結(jié)構(gòu)中，通孔蝕刻占比最高，達(dá)到44%，其次是通孔填充和減薄，分別為25%和24%。TSV為HBM核心工藝，成本占比接近30%，在HBM的3D封裝中成本占比最高。此外，TSV形成和顯露的成本占比也相對(duì)較高，超過(guò)了前/后道工藝的成本占比。

相較之下，TGV技術(shù)是對(duì)TSV的升級(jí)，其制作成本相較于硅基轉(zhuǎn)接板只有1/8。這主要得益于TGV技術(shù)無(wú)需制作絕緣層，降低了工藝復(fù)雜度和加工成本。此外，玻璃材料的優(yōu)良電學(xué)、熱學(xué)和力學(xué)性能也使其在應(yīng)用中具有顯著優(yōu)勢(shì)。TGV技術(shù)作為應(yīng)用于晶圓級(jí)封裝領(lǐng)域的新興縱向互連技術(shù)，有望實(shí)現(xiàn)芯片之間距離最短、間距最小的互聯(lián)。