超高分辨率壓電納米定位臺憑借其高精度、快速響應和高穩定性的卓越性能,引領眾多行業技術革新,為科研和工業生產帶來了前所未有的可能性。無論是在基礎科學研究中探索微觀世界的奧秘,還是在高端制造業中提升產品質量和性能,壓電納米定位臺都發揮著不可替代的作用。
P66.X5K壓電納米定位臺采用壓電陶瓷直驅技術,可產生X向一維運動,行程可達4.7μm,開環分辨率達0.2nm,可精準捕捉原子級位移變化,是一款具有超高分辨率的一維壓電納米定位臺。水平方向安裝承載可達2kg,立式與倒置安裝同樣穩定可靠,兼顧微小位移精度與大負載穩定性。體積小巧,結構緊湊,尺寸僅為85×70×15.5mm^3,成為空間受限場景的理想選擇。產品外觀如下圖所示。
產品特點
1.一維X向運動
2.行程可達4.7μm
開環位移曲線
3. 承載可達2kg
4.安裝方式可選
典型應用
1.半導體制造:在半導體芯片制造過程中,光刻環節對定位精度的要求近乎苛刻。壓電納米定位臺可用于精確控制晶圓和掩模版的相對位置,確保光刻圖案的精準轉移。利用壓電納米定位臺的超高精度,能夠有效提高芯片制造的良品率,推動半導體制造工藝向更小制程、更高集成度發展。
注:圖片來源于網絡
2.顯微/掃描:壓電納米定位臺可提供亞納米級精度、超高穩定性和快速響應能力,已成為現代顯微成像與掃描技術的核心組件,廣泛應用于超分辨顯微鏡、原子力顯微鏡(AFM)、共聚焦顯微鏡、電子顯微鏡(SEM/TEM)等設備。
注:圖片來源于網絡
3. 光學測量:光學測量是利用光的性質如光的傳播、反射、折射、干涉、衍射等,進行長度、形狀、角度、顏色等精確測量的非接觸式測量技術,壓電納米定位臺以其高精度和快速響應的特點,在光學測量技術中提供納米級精密定位,可使測量結果更精確。
注:圖片來源于網絡
技術參數
型號 | P66.X5K | |
運動自由度 | X | |
驅動控制 | 1 路驅動 | |
標稱行程范圍(0~120V) | 3.8μm | |
Max. 行程范圍(0~150V) | 4.7μm | |
開環分辨率 | 0.2nm | |
空載諧振頻率 | 2kHz | |
帶載諧振頻率 | 0.4kHz@2kg | |
階躍時間 | 1ms | |
靜電容量 | 0.38μF | |
工作溫度范圍 | -20~65℃ | |
承載能力 | 水平安裝 | 2kg |
立式安裝 | 1.5kg | |
倒置安裝 | 2kg | |
材質 | 不銹鋼、鋁合金 | |
出線長 | 1.5m | |
重量 | 240g |
配套控制器
E01.C1壓電控制器非常適用于驅動P66.X5K壓電納米定位臺。E01.C1是一款機箱式單通道壓電陶瓷控制器。輸出電壓范圍-20V~120V,帶寬10kHz,可手動調節、模擬輸入、自發波形控制,配備計算機串口/USB接口,液晶鍵盤顯示,操作便捷。
審核編輯 黃宇
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