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半導(dǎo)體材料發(fā)展史:從硅基到超寬禁帶半導(dǎo)體的跨越

jf_15747056 ? 來源:jf_15747056 ? 作者:jf_15747056 ? 2025-04-10 15:58 ? 次閱讀

半導(dǎo)體材料是現(xiàn)代信息技術(shù)的基石,其發(fā)展史不僅是科技進(jìn)步的縮影,更是人類對(duì)材料性能極限不斷突破的見證。從第一代硅基材料到第四代超寬禁帶半導(dǎo)體,每一代材料的迭代都推動(dòng)了電子器件性能的飛躍。

1

第一代半導(dǎo)體:硅與鍺的奠基時(shí)代

時(shí)間跨度:20世紀(jì)50年代至70年代
核心材料:硅(Si)、鍺(Ge)

硅(Si)

鍺(Ge)

優(yōu)勢(shì):

①成本低廉:硅是地殼中含量第二的元素,原材料豐富且提純技術(shù)成熟。

②工藝成熟:基于硅的集成電路制造技術(shù)高度標(biāo)準(zhǔn)化,適用于大規(guī)模生產(chǎn)。

局限性:

①性能瓶頸:禁帶寬度窄(硅為1.12eV),電子遷移率低,難以滿足高頻、高壓場(chǎng)景需求。

應(yīng)用領(lǐng)域:計(jì)算機(jī)芯片、光伏產(chǎn)業(yè)、基礎(chǔ)電子元件等,至今仍是電子信息領(lǐng)域的核心材料。

2

第二代半導(dǎo)體:化合物半導(dǎo)體的崛起

時(shí)間跨度:20世紀(jì)70年代至90年代

核心材料:砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)

砷化鎵(GaAs)

磷化銦(InP)

優(yōu)勢(shì):

①高頻性能:電子遷移率顯著高于硅,適用于毫米波通信和光電子器件。

②光電轉(zhuǎn)換效率高:廣泛應(yīng)用于LED、激光器等光電器件

局限性:

①成本與環(huán)境問題:原材料稀缺且有毒,制備工藝復(fù)雜,污染風(fēng)險(xiǎn)較高。

應(yīng)用領(lǐng)域:衛(wèi)星通信、光纖網(wǎng)絡(luò)、移動(dòng)通信基站等高頻場(chǎng)景。

3

第三代半導(dǎo)體:寬禁帶材料的突破

時(shí)間跨度:21世紀(jì)初至今
核心材料:碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)

碳化硅(SiC)

氮化鎵(GaN)

優(yōu)勢(shì):

①耐高壓高溫:禁帶寬度(SiC 3.2eV,GaN 3.39eV)遠(yuǎn)超硅,擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度高,適用于高功率器件。

②能效提升:導(dǎo)通損耗低,可顯著減少能源浪費(fèi)。

局限性:

①制備難度大:晶體生長技術(shù)復(fù)雜,成本高昂(SiC晶圓成本為硅的30-40倍)。

應(yīng)用領(lǐng)域:新能源汽車、5G基站、工業(yè)電源等高壓高頻場(chǎng)景。

4

第四代半導(dǎo)體:超寬禁帶材料的未來

時(shí)間跨度:2020年代起

核心材料:氧化鎵(Ga?O?)、金剛石(Diamond)、氮化鋁(AlN)

氧化鎵(Ga?O?)

金剛石(Diamond)

氮化鋁(AlN)

優(yōu)勢(shì):

①性能飛躍:氧化鎵禁帶寬度達(dá)4.9eV,理論擊穿場(chǎng)強(qiáng)是SiC的3倍,導(dǎo)通損耗僅為硅的1/3000。

②成本潛力:氧化鎵器件成本約為SiC的五分之一,且與現(xiàn)有硅基產(chǎn)線兼容。

局限性:

①制備挑戰(zhàn):氧化鎵導(dǎo)熱性差,金剛石大尺寸晶圓制備困難,AlN單晶缺陷控制難度高。

應(yīng)用領(lǐng)域:

短中期:消費(fèi)電子、工業(yè)電源等中高壓場(chǎng)景。

長期:特高壓電網(wǎng)、深紫外光電器件、軍用雷達(dá)等極端環(huán)境應(yīng)用。

政策助力第四代半導(dǎo)體材料騰飛

中國對(duì)于氧化鎵等第四代半導(dǎo)體材料的發(fā)展高度重視。2021 年,發(fā)改委將鎵系寬禁帶半導(dǎo)體材料列為 “十四五” 戰(zhàn)略性電子材料重點(diǎn)專項(xiàng),從國家層面為產(chǎn)業(yè)發(fā)展指明方向,提供政策支持和資源保障。2022 年,科技部將氧化鎵列入 “十四五” 重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃,進(jìn)一步推動(dòng)了氧化鎵材料在科研領(lǐng)域的深入研究,鼓勵(lì)科研機(jī)構(gòu)和高校開展相關(guān)基礎(chǔ)研究和技術(shù)創(chuàng)新。

北京、廣東、山西、山東、天津、上海等多個(gè)省市也紛紛出臺(tái)地方政策支持氧化鎵等第四代半導(dǎo)體發(fā)展。例如,北京通過一系列政策舉措,支持民營企業(yè)參與國家戰(zhàn)略科技力量建設(shè)和關(guān)鍵領(lǐng)域技術(shù)攻關(guān),探索采用以獎(jiǎng)代補(bǔ)、貸款貼息、首購訂購等多種方式,助力第四代半導(dǎo)體材料研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化。廣東則圍繞半導(dǎo)體及集成電路產(chǎn)業(yè),在企業(yè)引培、產(chǎn)品研發(fā)應(yīng)用、金融支持、人才引培等多方面提出具體獎(jiǎng)補(bǔ)措施,促進(jìn)包括第四代半導(dǎo)體材料在內(nèi)的整個(gè)產(chǎn)業(yè)生態(tài)的完善與發(fā)展。這些政策從不同層面為第四代半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)、應(yīng)用和產(chǎn)業(yè)化提供了全方位的支持,營造了良好的產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境,吸引了大量的資金、人才和技術(shù)資源向該領(lǐng)域匯聚。

半導(dǎo)體材料的四代發(fā)展歷程是一部不斷突破、創(chuàng)新的科技進(jìn)步史。每一代半導(dǎo)體材料都在特定的歷史時(shí)期滿足了當(dāng)時(shí)的市場(chǎng)需求,推動(dòng)了科技的進(jìn)步。第四代半導(dǎo)體材料憑借其獨(dú)特的性能優(yōu)勢(shì),有望在未來的科技發(fā)展中開辟新的應(yīng)用領(lǐng)域,引領(lǐng)新一輪的產(chǎn)業(yè)變革。在政策的大力支持下,隨著技術(shù)難題的逐步攻克,第四代半導(dǎo)體材料必將在全球科技競爭中占據(jù)重要地位,為人類社會(huì)的發(fā)展帶來更多的驚喜與變革。

JINGYANG

晶揚(yáng)電子 | 電路與系統(tǒng)保護(hù)專家

深圳市晶揚(yáng)電子有限公司成立于2006年,是國家高新技術(shù)企業(yè)、國家專精特新“小巨人”科技企業(yè),是多年專業(yè)從事IC設(shè)計(jì)、生產(chǎn)、銷售及系統(tǒng)集成的IC DESIGN HOUSE,擁有百余項(xiàng)有效專利等知識(shí)產(chǎn)權(quán)。建成國內(nèi)唯一的廣東省ESD保護(hù)芯片工程技術(shù)研究中心,是業(yè)內(nèi)著名的“電路與系統(tǒng)保護(hù)專家”。

主營產(chǎn)品:ESD、TVS、MOS管、DC-DC,LDO系列、霍爾傳感器高精度運(yùn)放芯片,汽車音頻功放芯片等。

審核編輯 黃宇

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