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AI與大數(shù)據(jù)催化中國半導(dǎo)體需求,中國晶圓廠加快量產(chǎn)

電子工程師 ? 來源:未知 ? 作者:龔婷 ? 2018-03-16 08:55 ? 次閱讀

知名自動化晶圓傳載供應(yīng)商家登今明兩年將搭乘中國晶圓廠加快量產(chǎn)時程,切入各地客戶供應(yīng)鏈之列,并加快市場布局。

家登董事長邱銘乾在SEMICON China接受DIGITIMES訪問時認為,中國市場有龐大人口與移動互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展基礎(chǔ)加上布局物聯(lián)網(wǎng)人工智能應(yīng)用積極,芯片國產(chǎn)化進程將會加速,在此大背景下中國晶圓廠“沒有理由不崛起”,也不會面臨所謂的“泡沫化”出現(xiàn)。

但是中國晶圓廠要邁入10納米以下先進工藝比拼的不僅是技術(shù)還有嚴謹?shù)墓芾?,晶圓廠要邁入這個階段仍須“ 一步一腳印”累積,與第一梯隊晶圓廠之間仍有一段不小的差距。

AI與大數(shù)據(jù)催化中國半導(dǎo)體需求

邱銘乾分析指出,未來走入人工智能、云運算與大數(shù)據(jù)時代,對于運算的處理、存儲與傳輸都需要大量乘載的基礎(chǔ)建設(shè),迎來5G移動世代來臨,對于影像與視訊的傳輸要求速率加快,這是中國國內(nèi)實際存在的需求,而且未來的對集成電路各種器件與應(yīng)用都將產(chǎn)生“催化效果”。

邱銘乾認為,基于此,即便是國內(nèi)晶圓廠包括8吋、12吋走較成熟的制程,如果找對了產(chǎn)品定位,就可以滿足國內(nèi)龐大的需求,營運也可以“小而美”。未來本地晶圓廠在中、低階制程與相應(yīng)的應(yīng)用仍大有可為,遍地“金子很多”,不至于會出現(xiàn)所謂的擴產(chǎn)“泡沫化”。

但另一方面,同時也面臨邁進先進工藝技術(shù)更高的挑戰(zhàn),因為任何制程上的出錯就會造成良率大降,要求各個制造環(huán)節(jié)的緊密配合與團隊合作,更依靠嚴謹?shù)膹S務(wù)管理,這不僅需要技術(shù)優(yōu)勢,更需要嚴謹?shù)墓芾砼c頂尖人才。

從全球范圍看由于新材料與新技術(shù)推進IC尺寸繼續(xù)縮小,未來幾年不僅10納米量產(chǎn)會繼續(xù)擴大,7納米也在研發(fā)生產(chǎn),先進工藝的商機也已涌現(xiàn)。

發(fā)展先進工藝需“一步一腳印”

但先進工藝方面,他觀察說,本土晶圓廠或許可以模仿到“形”但距離學(xué)習(xí)到目前第一梯隊晶圓廠的精髓,也就是“神”,仍有一段長路要走,本土晶圓廠要順利走到10納米以下生產(chǎn),還需要“一步一腳印”與時間的積累。

從技術(shù)與投資方面,目前本地晶圓場仍在試圖突破28納米工藝,要進入14nm-10nm-7nm還有一段路要走。同時進入7納米世代無可回避必須要采用EUV系統(tǒng),取代過去多重曝光,很多晶圓廠都處于探索階段,需要投入大量研發(fā)資源。

此外從企業(yè)來看,目前頂尖的晶圓代工廠倚靠的不僅是技術(shù),組織與企業(yè)文化也是關(guān)鍵,目前中國晶圓廠包括來自本地、海歸派與海外四面八方人才,這些人才隊伍想要“擰成一股繩”恐怕還需要時間磨合。

這也會形成,位居第一梯隊的晶圓廠領(lǐng)先的競爭優(yōu)勢,短期之內(nèi)不會消失。包括英特爾三星、臺積電都會在未來EUV世代階段,將以更領(lǐng)先強大的優(yōu)勢形成更嚴密的IP保護與技術(shù)壁壘,對于第二梯隊與第三梯隊的晶圓廠來說,進入門檻將更高。

但是無疑的是,在政策強大的支持下,中國半導(dǎo)體發(fā)展這兩年,仍會處于蓬勃起飛的階段,從政策與資金支持以及市場需求來說,中國市場無可替代,加上各地積極招商引資,未來2018-2019年可見到逾20家晶圓廠啟動量產(chǎn)與相應(yīng)的擴產(chǎn)設(shè)備材料需求。

正因如此,家登會加速本地化布局,目前在300 FOUP(Front Opening Unified Pod)持續(xù)推進與晶圓廠客戶認證,同時推動客戶在8吋與12吋自動化量產(chǎn)需求,尤其是12吋晶圓建廠對于光罩無人自動化傳載需求增加。這也是家登近兩年持續(xù)參加SEMICON China強化與客戶之間互動溝通的原因

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原文標題:【專訪】家登董事長邱銘乾:本地晶圓廠加快量產(chǎn) 內(nèi)需龐大趁勢崛起

文章出處:【微信號:DIGITIMES,微信公眾號:DIGITIMES】歡迎添加關(guān)注!文章轉(zhuǎn)載請注明出處。

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