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為什么EliteSiC M3S技術是高速開關應用的更優選擇?

安森美 ? 來源:未知 ? 2023-11-27 19:10 ? 次閱讀

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作者:Fatih Cetindag,安森美汽車電源部應用工程師



碳化硅 (SiC) 具有比硅 (Si) 更高的介電擊穿場強、能帶隙和熱導率,電力電子設計人員可以利用這些特性來開發比硅基IGBT器件效率更高、功率密度更大的電源轉換器。針對這些應用,為了最大限度地減少高頻下的導通和開關損耗,需要使用低RDS(on)和低Qrr(體二極管反向恢復電荷)的器件。



本文將介紹三相功率因數校正 (PFC) 轉換器的器件特性測試和仿真結果,轉換器使用兩款TO247-4L封裝的不同SiC MOSFET(金屬氧化物半導體場效應晶體管) 實現。被測器件之一來自安森美 (onsemi) 新推出的EliteSiC M3S系列,其針對低開關損耗進行了優化,另一款被測器件來自競爭對手,其基本參數如表1所示。本文還討論了器件參數如何影響相對性能。


了解MOSFET用作開關時的功率損耗



開關器件中的功率損耗可分為導通損耗和開關損耗。由于電流或電壓不可能瞬時改變電平,因此存在上升和下降時間,開關損耗也就隨之產生。對于功率 MOSFET 的電壓和電流,上升和下降時間取決于器件寄生電容的充放電速度。此外,體二極管的反向恢復電荷也會造成開關損耗。另一方面,當器件“開啟”傳導電流時,器件會有導通損耗。器件的動態參數決定開關損耗,而導通損耗則與靜態參數有關。通過研究這些參數,設計人員可以深入了解器件性能與功率損耗大小的關系。影響開關損耗的主要參數是器件電容(Coss、Ciss和Crss)和體二極管反向恢復電荷 (Qrr)。相比之下,造成導通損耗的主要因素是RDS(on)和VSD(體二極管壓降)。


動態特性測試



首先,在不同條件下使用雙脈沖測試裝置進行動態特性測試,以比較每個MOSFET的關鍵參數,如圖1所示。然后進行三相PFC仿真,以比較每個MOSFET的整體系統效率。


圖 1:雙脈沖測試電路簡化示意圖


表1:兩款被測器件的資料手冊信息


靜態參數比較



RDS(on)和VSD(體二極管壓降)是最重要的靜態參數,我們在多種測試條件下進行了測試。安森美NVH4L022N120M3S與競爭對手A的備選SiC MOSFET進行了對比測試。表2中總結的結果表明,在所有測量的溫度和電流下,安森美NVH4L022N120M3S性能更優越,其VSD均更低。根據這些結果可知,其導通損耗更低。


表2:不同測試條件下VSD的比較


RDS(on) 是另一個可用于預測器件導通損耗的關鍵參數。因此,在25°C和175°C結溫下對兩個器件的RDS(on)參數進行了測定。RDS(on)的測量在15V和18V兩種柵源電壓下進行,使用300μs的導通脈沖寬度。測試結果表明,競爭產品A在每種測試條件下的RDS(on)都略低,這說明在給定結溫下,其導通損耗低于M3S。

圖2:兩個MOSFET在25°C(左)和175°C(右)下的RDS(on)比較


動態參數



SiC MOSFET中不存在少數載流子,因此尾電流不會像在Si IGBT中那樣影響性能,結果是關斷損耗顯著降低。此外,SiC器件具有比Si MOSFET更低的反向恢復電荷,因此峰值導通電流更小,導通損耗更低。輸入電容(Ciss)、輸出電容 (Coss)、反向傳輸電容 (Crss) 和反向恢復電荷 (Qrr) 是造成開關損耗的主要參數,值越小通常損耗越低。在開關應用中,開關瞬態間隔期間的漏源電壓顯著高于 6V,因此高電壓區域是這些開關曲線的關鍵部分。當VDS≥6V時,NVH4L022N120M3S的Ciss、Coss和Crss值更低(圖3),這意味著其導通損耗和關斷損耗低于競爭產品A。


圖3:輸入Ciss、輸出Coss和反向傳輸Crss電容的比較


在25°C和175°C時,通過雙脈沖測試在多種負載電流條件下測量了兩款器件的開關損耗,如圖4和圖5所示。測試條件如下:

  • Vin=800V

  • RG=4.7?

  • VGS_on=+18V

  • VGS_off=?3V

  • ID=5?100A


平均而言,與競爭產品A相比,對于10A至100A的負載電流,M3S的開關損耗在25°C時要低5%,在175°C時要低9%。主要原因是得益于安森美的M3S工藝技術,其EON損耗更低。

圖4.25°C 時的開關損耗比較


圖5.175°C時的開關損耗


如前所述,MOSFET的反向恢復行為也會影響開關損耗。該參數的測試條件為:ID=40A,di/dt=3A/ns(調整RG值以獲得相同di/dt),溫度為25°C。測試結果表明,M3S的反向恢復時間更短,反向恢復電荷更低,反向恢復能量更低,因此其反向恢復性能優于競爭產品A。


圖6:M3S(左)和競爭產品 A(右)的反向恢復損耗比較


常用汽車拓撲中的 MOSFET 性能仿真



升壓型PFC和具有兩個電感 (LL)、一個電容 (C) 的LLC,是汽車車載充電器和高壓DC/DC轉換器中常用的電路拓撲。升壓型三相PFC拓撲包括六個開關器件,而全橋LLC拓撲有四個開關器件,次級側還有同步整流器。

圖7:升壓型三相PFC(左)和全橋LLC(右)


評估完導通損耗和開關損耗之后,接下來對三相升壓型PFC電路進行仿真(利用PSIM),使用以下測試條件分別比較采用每種類型MOSFET的系統效率:


  • VaLL=VbLL=VcLL=400V

  • fline=50Hz

  • RG=4.7?

  • VOUT=800V

  • fSW=100kHz

  • POUT=11kW(最大值)



仿真結果表明,對于相同的系統設計,采用NVH4L022N120M3S的三相升壓PFC系統在所有工作點上都表現出比競爭產品A更高的效率。

圖8:仿真估算:不同功率水平下的效率比較


M3S 是開關應用的更優選擇



在電力電子應用中,SiC 器件相比傳統硅基器件具有多項優勢,包括更高的效率、更低的開關損耗和導通損耗,以及能夠在更高頻率下工作,從而支持更高功率密度的設計。與類似的競爭器件相比,安森美的 M3S 技術提供更勝一籌的開關性能和品質因數,包括ETOT、Qrr、VSD和整體系統效率。M3S技術專為滿足電動汽車高頻開關應用(如車載充電器和高壓DC/DC轉換器)的要求而打造。M3S MOSFET旨在實現導通損耗和開關損耗之間的平衡,從而適用于PFC和其他硬開關應用。




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