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牛津儀器推出突破性超快ALD產品,用于量子技術和先進研發

半導體芯科技SiSC ? 來源:牛津儀器 ? 作者:牛津儀器 ? 2023-10-23 16:20 ? 次閱讀

來源:牛津儀器

牛津儀器(Oxford Instruments)推出PlasmaPro ASP系統,這是其Atomfab?產品系列中的一款高速原子層沉積(ALD)研究系統。PlasmaPro ASP受益于新的專利遠程等離子體源設計、優化的腔室幾何形狀和用于離子能量控制的晶圓臺偏置。這些特性結合在一起,為量子應用提供了三倍快的ALD速率、低電阻率和高Tc超導氮化物薄膜,這是此次發布的最初應用重點。

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等離子體源設計涉及與埃因霍溫理工大學(TU/e)的合作,該大學獲得了一個開發模塊,用于研究等離子體參數空間并確認高速率低損傷源特性。與TU/e聯合開發后發表的論文(Innovative remote plasma source for atomic layer deposition for GaN devices)在去年的AVS ALD/ALE。

會議上榮獲最佳論文獎。牛津儀器與TU/e的合作一直持續到工藝開發,過去一年,TU/e一直充當量子和其他應用的PlasmaPro ASP應用開發加速器。

PlasmaPro ASP系統是牛津儀器現有ALD工具集的絕佳補充,旨在通過創新的高速率源設計和超長機器正常運行時間,以及直觀軟件用戶界面來解決關鍵的量子挑戰。它在生產率和等離子體功能方面與眾不同,為在電子、光子學和量子技術領域的研究提供了一些獨特的機會。

審核編輯:湯梓紅

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