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季豐電子新引入精密芯片裂片設備SELA—MC10

上海季豐電子 ? 來源:季豐電子 ? 2023-09-21 18:27 ? 次閱讀
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SELA是通過刻痕和斷裂的雙重過程制備樣品,獲得高質量截面。標準的制備過程包括以下兩個主要階段:

? 通過一個兩級精密微裂解的設備,來制備已經預設定寬度并已做好裂解位置標記點的晶片段;

? 通過精密的納米裂解設備,來制備已經做好裂解位置標記點的截面樣品。

季豐電子可以精準、快速地獲得樣品截面,并在一分鐘內完成單個樣品的裂解(包括切割目標的兩側),并確保樣品擁有微米級的精度和極高的截面質量。配備軟件和算法,可實現在半自動裂解過程中精確地完成定點裂片。

設備規格指標

硅晶片:任何標準的晶片材料,單芯片。

硅片類型:<100>

截面精度:±5 微米,1西格瑪(單工藝和SDO工藝)

附加材料:砷化鎵、磷化銦、或者其他具有正交晶體矢量的單晶結構。

晶片樣品厚度:80~1000um

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審核編輯:劉清

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原文標題:季豐電子新引入精密芯片裂片設備SELA—MC10

文章出處:【微信號:zzz9970814,微信公眾號:上海季豐電子】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

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