隨著薄膜晶體管液晶顯示器的迅速發(fā)展，產(chǎn)品高分辨率、廣視角、高響應(yīng)速度 、 高開(kāi)口率等需求對(duì)器件的顯示質(zhì)量提出了更高的要求。而伴隨著像素尺寸變小， 線間距越來(lái)越小， 當(dāng)信號(hào)線上有電流通過(guò)時(shí)，線間感應(yīng)電場(chǎng)的千擾變得尤為突出，像素之間的合加劇，這些都會(huì)導(dǎo)致串?dāng)_現(xiàn)象的發(fā)生，大大影響了產(chǎn)品良率和顯示效果。所以串?dāng)_對(duì)來(lái)說(shuō)，是一個(gè)急需解決的重大問(wèn)題

串?dāng)_的定義及分類

在薄膜晶體管液晶顯示器中，人們將串?dāng)_定義為整個(gè)屏幕中某一區(qū)域的顯示會(huì)受到另一區(qū)域的影響，而造成畫(huà)面失真的一種顯示異常的現(xiàn)象。但是由于人眼對(duì)顯示屏幕不同亮度的敏感度不同，只有在某些灰階背景下，串?dāng)_現(xiàn)象才能夠較容易地觀察出來(lái)。

串?dāng)_常見(jiàn)的有兩種分別稱為垂直串?dāng)_和水平串?dāng)_。如下圖所示，背景為46 灰階，中間為黑色方塊。黑色方塊的周邊區(qū)域根據(jù)位置可以分為上、下、左、右四個(gè)區(qū)域。當(dāng)上、下區(qū)域受到黑色區(qū)域的影響而變的比背景更暗時(shí)，稱為垂直串?dāng)_。同理，當(dāng)左、右區(qū)域受到黑色區(qū)域的影響變的比背景更亮?xí)r，稱為水平串?dāng)_。

(串?dāng)_比較容易發(fā)生在列反轉(zhuǎn)、頓反轉(zhuǎn)、com反轉(zhuǎn)模式中，而在目前常用的點(diǎn)反轉(zhuǎn)模式中出現(xiàn)較少)

水平串?dāng)_產(chǎn)生的原因

TFT面板在上板共電極與 TFT 面電容除了像素ITO與上板ITO電極形成的液晶電容以外，還有數(shù)據(jù)線和掃描線與上板電極形成的寄生電容，見(jiàn)下圖。

上板共電極其實(shí)是一個(gè) RC 延時(shí)很大的電阻-電容網(wǎng)絡(luò)，當(dāng)數(shù)據(jù)線電壓變化時(shí)，便會(huì)經(jīng)由數(shù)據(jù)線與上極板形成的寄生電容，影響到上極板共電極電位，由于上極板電阻很大，沒(méi)辦法短時(shí)間內(nèi)消除電位變化的影響，恢復(fù)不到設(shè)定的電壓，便會(huì)形成串?dāng)_。

對(duì)列反轉(zhuǎn)的情況下，如圖 1.23。如果 A、B 兩條信號(hào)加的電壓不同，這時(shí) B上的信號(hào)會(huì)通過(guò) Com 電極合到A 信號(hào)線上，使得 A列的像素電壓異常，不能顯示正常灰階，導(dǎo)致水平串?dāng)_。

垂直串?dāng)_產(chǎn)生的原因

在共電極結(jié)構(gòu)中，像素電極本身和下一條數(shù)據(jù)線間存在寄生電容，如下圖所示。數(shù)據(jù)線上信號(hào)的變化會(huì)經(jīng)由這些電容耦合到下一個(gè)數(shù)據(jù)線，引起下一個(gè)數(shù)據(jù)線上連接的子像素行成串?dāng)_。

在幀反轉(zhuǎn)中，參考波形圖 1.20，像素 A1 和A2與B1和 B2上的電壓波形會(huì)有所差別。像素 B1、B2 顯示的灰階是相同的，但是 Vms 值比較會(huì)發(fā)現(xiàn): A1會(huì)比B1的Vrms 值大,所以A1 會(huì)顯示的灰階比較深,而A2會(huì)比 B2的 Vms 值小，所以顯示的灰階值較淺。最終出現(xiàn)如圖 1.19 的串?dāng)_。

Vrms 也稱液晶的有效電壓，液晶屏的透過(guò)率和相應(yīng)時(shí)間都是與它直接相關(guān)的。

除了寄生電容能引起垂直串?dāng)_以外，還有一個(gè)因素也是不能忽略的，那就是漏電過(guò)大。不難想象，如果 TFT 漏電過(guò)大，加在存儲(chǔ)電容上的電壓會(huì)漏到信號(hào)線上而使存儲(chǔ)中容的電壓改變，但由于 A、B 兩列信號(hào)線上加的電壓不同，最后導(dǎo)致的像素電壓 Vms 值也會(huì)不同,造成串?dāng)_現(xiàn)象,信號(hào)波形描述示意圖如圖 1.21

水平串?dāng)_的改善方法

水平串?dāng)_的主要原因是共電極的延遲，參考共電極延遲的計(jì)算公式可知，可以從減小共電極電阻及共電極耦合電容兩方面來(lái)對(duì)水平串?dāng)_進(jìn)行改善。

降低共電極的電阻，可以采用如下方法:

1.在布線空間允許情況下，將 Vcom ITO線寬做到最大

2增加Vcom ITO電極的膜厚;

3.采用具有更小Rs的透明材料取代ITO 材料，如IZO

電容方面，已知平板電容的決定式為:

其中S為兩板正對(duì)面積，ε為介電常數(shù)，k為靜電常量，d為兩極板之間的距離從該公式可知，減小電容需從減小交疊面積S和增大兩極板距離d兩方面進(jìn)行。

垂直串?dāng)_的改善方法

造成垂直擾的主要因素是數(shù)據(jù)線對(duì)像素電極的合電容Cpd 以及像素 TFT 的漏電。因此，要改善垂直串?dāng)_，就需要找到數(shù)據(jù)線與像素電極之間的最佳距離，在不損失開(kāi)口率的情況下降低數(shù)據(jù)線對(duì)像素電極的耦合影響;同時(shí)從TFT的開(kāi)關(guān)特性出發(fā)，控制影響TFT 電的因素。

減小Cpd耦合電容：

(1)從設(shè)計(jì)上，需保證數(shù)據(jù)線與像素 ITO之間的距離為 6um 以上(其中包含了 2.5m 的工藝波動(dòng))，對(duì) IPS型TFT-LCD，還需讓 Vcom ITO到數(shù)據(jù)線的距離在 3.5um 以上(其中包含了25um的工藝波動(dòng))。而針對(duì)不同的生產(chǎn)線，設(shè)計(jì)人員需要綜合考慮所在產(chǎn)線的工藝波動(dòng)、S/D 及 ITO線寬和位置的波動(dòng)，從而敲定這兩個(gè)距離的大小。

然而，隨著分辨率和開(kāi)口率的提高，且顯示屏的邊框越來(lái)越窄，設(shè)計(jì)時(shí)無(wú)法給數(shù)據(jù)線和像素ITO之間留出足夠的距離，因此需考慮能夠更好地屏蔽數(shù)據(jù)線對(duì)像素ITO電場(chǎng)干擾的方法。

對(duì)于IPS 型TFT-LCD，可以在 S/D 層上增加一層樹(shù)脂(Resin)層，該 Resin 層同樣可以起到屏蔽數(shù)據(jù)線電場(chǎng)干擾的作用。另外，也可以在掃描線下方增加一條Vcom金屬線,該層金屬與掃描線為同一層,并與TFT基板上的VcomITO導(dǎo)通。像素ITO 與該 Vcom 金屬有交疊，因此可以形成存儲(chǔ)電容 Cst。這樣將Cst進(jìn)一步增大，降低合電容 Cpd在總電容 Cta中的比例，減小因 Cpd而造成的影響，從而規(guī)避串?dāng)_不良的產(chǎn)生。

減小漏電流:

(1)在設(shè)計(jì)上，需要減小有源層面積，使其被包裹在柵極基臺(tái)內(nèi)，避免受到光照和溫度的影響。將柵極關(guān)斷電壓設(shè)置在-10.5V 左右。另外也可以采用雙有源層結(jié)構(gòu)、雙柵結(jié)構(gòu)來(lái)提高 TFT 的關(guān)態(tài)特性。

(2)在工藝上，可以減小有源層厚度來(lái)優(yōu)化 TFT 關(guān)態(tài)特性，同時(shí)也必須提高對(duì)位精度，嚴(yán)格管控有源層在工藝上的偏移。

串?dāng)_的計(jì)算方法

Cross talk計(jì)算公式：MAX(abs（(A-a)/A）;abs（(B-b)/B）;abs（(C-c)/C）;abs（(D-d)/D）)

選取最大值為最終測(cè)試結(jié)果。

注：Abs為絕對(duì)值函數(shù)。

審核編輯：劉清