電遷移和紅外壓降 （EM-IR） 分析不是工具。 實際上，這是一個復雜的流程，包括寄生提取、布局后仿真和結果的詳細分析。 這就是為什么必須在流程的所有階段做出謹慎的決定。 例如，在提取過程中，必須正確選擇工藝和溫度。 此外，在提取過程中，必須將其配置為生成包含所有必需物理信息的高質量 DSPF。 在仿真過程中，還必須針對 EM-IR 引擎的精度和性能進行調整。 對于DSPF包含數百萬寄生R和C的大型模塊尤其如此。 對于高級節點客戶，建議捕獲互連上設備的自熱效應 （SHE）。 但是，將其與可靠性分析結合使用并啟用 SHE 選項可能會令人生畏。 最后，應該注意的是，EM-IR分析的目的是確保布局的魯棒性，這很容易需要多次迭代。 更改布局后，您需要在每個流程中查找上次保存的設置，以保持結果一致。 這對Voltus-Fi用戶來說是一個重大挑戰。

Voltus-XFi旨在通過提供單個駕駛艙來運行EM-IR流來解決這些問題。 它是用于模擬或定制模塊的簽核EM-IR分析的下一代解決方案，并已通過大多數領先鑄造廠的認證。 Voltus-XFi流程的核心是Virtuoso的新視圖類型。 這是保存被測設備 （DUT） 提取、仿真和分析設置的地方，您只需單擊一個按鈕即可重新運行流程！ 該駕駛艙會自動將所有鑄造廠和工藝特定的設置應用于您的設計，確保一次性獲得準確的結果。

現在，你有沒有想過可衡量的生產力收益來自哪里？ 有兩個主要因素導致這種情況：

更快的分析 - Voltus-XFi流的默認模擬器設置基于Spectre X的專利兩步法。 與Voltus-Fi流相比，Voltus-XFi提供了更快的模擬，同時保持了相同的精度水平。 在Voltus-Fi中，您必須調整大量選項來調整準確性和性能。 但是有了Voltus-XFi，我們讓這就像選擇Spectre X的預設一樣簡單。 如果選擇 EM-IR 預設，引擎將負責其余的工作。

布局編輯器中的結果加載時間 - Voltus-XFi創建了一個針對GUI加載進行了優化的新結果數據庫。 這樣可以實現更快的可視化和顯著縮短的周轉時間 （TAT）。

現在是什么時候？

下表將 3nm PLL 設計的仿真時間與 EM-IR 結果的加載時間進行了比較。 此數據支持本文前面所述的性能改進。

還有更多

讓我們也談談Voltus-XFi解決方案無法量化但涉及的好處。 一個突出的功能是將所有流設置保存在單個 DFII 視圖中的設置結構。 此設置結構始終伴隨著 DUT，因此可以使用您選擇的版本控制軟件管理此視圖。 此外，新的Voltus-XFi結果瀏覽器通過停靠助手顯示結果，使您可以快速識別感興趣的網絡。 使用信息氣球和為電遷移檢查提供的全面信息的畫布內調試簡化了布局簽核。

下圖比較了Voltus-Fi和Voltus-XFi具有不同的用戶體驗參數：

準備好將您的EM-IR解決方案升級到Voltus-XFi定制電源完整性解決方案了嗎？

審核編輯：郭婷