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光芯片時代已經到來 源杰科技、武漢敏芯等廠商發展前景廣闊

一人評論 ? 來源:一人評論 ? 作者:一人評論 ? 2022-11-05 11:50 ? 次閱讀

如今,光芯片代表的光子學正與電子學引發一場科學革命,芯片從電到光,將是我國實現趕超的戰略機遇。在此背景下,源杰科技、武漢敏芯、云嶺光電、光迅科技等一眾本土廠商迎來廣闊的發展機遇。

目前,光芯片的技術概念有多重含義,包括光通信、光計算、光量子等,應用廣泛分布在工業、消費、汽車、醫療等領域。但它的典型應用場景仍然是光通信,也是最核心的應用領域。

光通信指以光纖為載體傳輸光信號的大容量數據傳輸方式,通過光芯片和傳輸介質實現對光的控制。在光通信產業鏈中,光芯片是最核心的部分,一般分為2.5Gb/s、10Gb/s、25Gb/s及以上各種調制速率,速率越快對應的光模塊在單位時間內傳輸的信號量就越大。

與此同時,光芯片也是光模塊物料成本結構中占比最大的部分。通常而言,光芯片約占中端光模塊物料成本的40%,一些高端光模塊中它的物料成本甚至能占到50%以上,反觀電芯片的成本通常占比為10%~30%,越高速、高端的光模塊電芯片成本占比越高。

按功能,光芯片主要分為激光器芯片和探測器芯片兩類。激光器芯片用于發射信號,將電信號轉化為光信號,按出光結構進一步分為面發射芯片和邊發射芯片,主要包括VCSEL、FP、DFB、EML;探測器芯片用于接收信號,將光信號轉化為電信號,主要包括PIN和APD。

光芯片作為上游元件,市場主要受下游光模塊拉動。據國信證券測算,以光模塊行業平均25%的毛利率及Light Counting對光模塊全球超150億美元的市場規模預測估算,2021年光芯片全球市場規模約為35億美元,預計2025年可達60億美元。

歐美日在光芯片上技術起步早、積累多,是市場的主導者。這些國家的研究機構和先進企業通過不斷積累核心技術和生產工藝,逐步實現產業閉環,建立起了極高的行業壁壘。

反觀國內則起步較晚,高速率光芯片(25Gb/s及以上速率)嚴重依賴進口,與國外產業領先水平存在明顯差距。數據顯示,我國2.5Gb/s光通信芯片國產化率接近50%,但10Gb/s及以上的光通信芯片國產化率卻不超過5%,非常依賴Lumentum、Broadcom、三菱、住友等公司。

與此同時,雖然光芯片國產廠商普遍擁有晶圓外延環節以外的后端加工能力,但核心的外延技術并不成熟,高端的外延片需要進口,大大限制了高端光芯片發展。

2017年,中國電子元件行業協會發布的《中國光電子器件產業技術發展路線圖(2018-2022 年)》中指出,我國廠商只掌握了10Gb/s速率及以下的激光器、探測器、調制器芯片以及PLC/AWG芯片的制造工藝和配套IC的設計、封測能力,高端芯片能力比國際落后1~2代以上,且缺乏完整、穩定的光芯片加工平臺和人才,導致芯片研發周期長、效率低,逐漸與國外的差距拉大。彼時明確了重點是25Gb/s及以上速率激光器和探測器芯片。

到了2022年,國產高端光芯片有明顯突破,但依舊大幅落后于國際巨頭。而關鍵的25Gb/s激光器和探測器芯片方面,源杰科技、武漢敏芯、云嶺光電、光迅科技等企業開始量產,不過整體銷售規模仍然較小。以源杰科技為例,其10Gb/s、25Gb/s激光器芯片系列產品出貨量在國內同類產品中已名列前茅,2022年上半年銷售額為4100萬元。

對國產光芯片追逐者來說,分工模式是關鍵。芯片行業分為Fabless(設計公司)和IDM(設計、制造、封裝全流程)兩種模式,其中IDM模式是主導光芯片的主要模式。一方面,光芯片的核心在于晶圓外延技術;另一方面,由于采用III-V族半導體材料,因此要求光芯片設計與晶圓制造環節相互反饋驗證。

縱覽市場,國產光芯片典型玩家均選擇了IDM模式,如仕佳光子、長光華芯、源杰科技。一方面,IDM能夠及時響應市場需求,靈活調整產品生產過程中各種工藝參數;另一方面,能夠高效排查問題,精準觸達產品設計、生產、測試環節問題;另外,IDM模式形成了完整的閉環流程,不僅全部自主可控,同時能夠有效保護知識產權。

掌握先進的光芯片技術,是各國爭相競逐的關鍵。以美國為例,不僅在政策上不斷傾斜,以IBM、Intel為代表的工業巨頭、以MIT、UCSB為代表的學術界領軍機構都在不遺余力地發展大規模光子集成芯片。另外,歐盟的“地平線 2020”計劃和日本的“先端研究開發計劃”中也涉及光電子集成研究項目。

種種動作,預示著一場以光為核心的科技革命,正在醞釀之中??v觀歷史,科技革命的擴散周期大約為60年,集成電路從20世紀60年代誕生至今也已過去60年,光芯片無疑是引領下一個60年的關鍵。當然,光子也并不是要完全替代掉電子,而是相互協同。

屬于光芯片的時代已經到來,但芯片行業一直殘酷地循環著優勝劣汰和洗牌,誰能追逐得更快,誰才會成功。

審核編輯 黃昊宇

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