離子注入工藝原理介紹
四十五所作為國內最大的濕化學設備供應商之一，其設備涵蓋了半導體制造幾乎所有的濕化學制程，包括：金屬刻蝕、深硅刻蝕、二氧化硅刻蝕、RCA清洗、酸洗、有機清洗、去膠、顯影、去蠟、制絨、高溫側腐、電鍍等。設備操作模式包括全自動、半自動和手動，能根據客戶的產能要求、自動化程度、工藝需求等定制最佳的配置方案。
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原文標題：PPT | 離子注入工藝原理介紹
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