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三星EUV專利首次超過國外公司

lhl545545 ? 來源:快科技 ? 作者:憲瑞 ? 2020-11-17 09:33 ? 次閱讀

半導體工藝進入7nm之后,EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了,全球也只有ASML公司能生產,單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上,ASML還真不一定就是第一,專利比三星還少。

韓國媒體報道,近年來韓國企業及科研機構在EUV光刻工藝大舉投入,專利技術上正在跟國外公司縮短差距。

據報道,在2011到2020年的專利申請中,向韓國知識產權局(KIPO)提交的與EUV光刻相關的專利申請數量達到88件的峰值,2018年達到55件,2019年達到50件。

其中2019年中韓國本土公司提出的EUV專利申請為40件,超過了國外10件,這也是韓國提交的EUV專利首次超過國外公司。

在2020年中,韓國公司提交的EUV專利申請達到了國外的2倍多,其中三星公司是最多的,該公司今年已經開始使用5nm EUV工藝生產手機處理器

從全球來看,TOP6的廠商申請的EUV專利占了全部的59%,其中卡爾蔡司占比18%(畢竟光學物鏡是EUV核心),位列第一,三星緊隨其后,專利申請占比18%,ASML公司占比11%,位列第三。

再往下,韓國S&S Tech占了85,臺積電占了6%,SK海力士占了1%。

從具體技術項目看,工藝技術申請專利占32%,曝光裝置技術申請專利占31%,掩膜技術申請專利占28%,其他申請專利占9%。

在工藝技術領域,三星電子占39%,臺積電占15%。

在光罩領域,韓國S&S科技占28%,日本Hoya占15%,韓國漢陽大學占10%,日本朝日玻璃占10%,三星電子占9%。
責任編輯:pj

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