女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

首EUV光刻機的出口交貨影響,三星5nm技術(shù)應(yīng)用部署將延后

牽手一起夢 ? 來源:慧聰電子網(wǎng) ? 作者:黃偉雅 ? 2020-04-21 15:56 ? 次閱讀

據(jù)悉,由于新型冠狀病毒疫情影響,作為全球唯一一家生產(chǎn)EUV光刻機的制造商荷蘭ASML公司很難將設(shè)備出口,將導(dǎo)致三星原本向荷蘭ASML訂購EUV光刻機出口交貨受影響,進(jìn)而造成其5nm技術(shù)應(yīng)用部署將因此延后。

業(yè)內(nèi)人士表示,荷蘭ASML設(shè)備交付影響了三星、臺積電這兩家巨頭的研發(fā)、生產(chǎn)進(jìn)度,其中三星遭受的損失會更大。

由于臺積電在去年便擴大采購ASML旗下EUV光刻機,采購占比幾乎高達(dá)ASML總出貨量的一半以上,并且計劃應(yīng)用在今年第二季大規(guī)模量產(chǎn)的5nm工藝產(chǎn)品,其中包含華為、高通AMD,以及蘋果旗下新款處理器,雖然整體多少還是受到疫情影響,但臺積電強調(diào)5nm工藝技術(shù)影響程度不大,僅接下來的3nm工藝試產(chǎn)可能會有延后情況。

而三星方面雖然也進(jìn)入5nm工藝技術(shù)應(yīng)用布局,但主要還是先聚焦在DRAM在內(nèi)內(nèi)存產(chǎn)品,加上先前EUV光刻機訂購數(shù)量相對較少,目前更因疫情影響設(shè)備交貨時程,使得三星在5nm工藝技術(shù)用于處理器產(chǎn)品量產(chǎn)腳步將面臨落后。

臺積電在5nm競賽上領(lǐng) 先三星,因此這種由于疫情導(dǎo)致的計劃推遲使得三星與臺積電的差距會越來越大,這樣導(dǎo)致的結(jié)果是三星公司幾乎不可能從蘋果、高通等巨頭那里獲得訂單支持。

另一方面,臺積電計劃在2020年第二季度為蘋果、華為、AMD生產(chǎn)5nm芯片,而三星尚未提供大規(guī)模量產(chǎn)5nm工藝的詳細(xì)時間表,二者的差距有望進(jìn)一步擴大。

另外,市場也有消息指稱蘋果已經(jīng)向臺積電預(yù)訂大量5nm工藝技術(shù)產(chǎn)能,預(yù)期將會用于新款A(yù)14處理器量產(chǎn),并且將應(yīng)用在今年下半年準(zhǔn)備推出的iPhone12系列手機,甚至蘋果還一度要求預(yù)訂臺積電今年第四季的5nm工藝技術(shù)產(chǎn)能,因此有可能影響其他諸如華為、高通及AMD處理器產(chǎn)品生產(chǎn)比例。

不過,其他消息也指稱華為取消原本向臺積電預(yù)訂的5nm工藝技術(shù)產(chǎn)能。

責(zé)任編輯:gt

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報投訴
  • 三星電子
    +關(guān)注

    關(guān)注

    34

    文章

    15885

    瀏覽量

    182121
  • 臺積電
    +關(guān)注

    關(guān)注

    44

    文章

    5738

    瀏覽量

    168902
  • 光刻機
    +關(guān)注

    關(guān)注

    31

    文章

    1163

    瀏覽量

    48047
收藏 人收藏

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點推薦

    光刻機巨頭ASML業(yè)績暴雷,芯片迎來新一輪“寒流”?

    電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/黃山明)作為芯片制造過程中的核心設(shè)備,光刻機決定著芯片工藝的制程。尤其是EUV光刻機已經(jīng)成為高端芯片(7nm及以下)芯片量產(chǎn)的關(guān)鍵,但目前
    的頭像 發(fā)表于 10-17 00:13 ?3247次閱讀

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極

    電子直寫光刻機駐極體圓筒聚焦電極 隨著科技進(jìn)步,對電子顯微鏡的精度要求越來越高。電子直寫光刻機的精度與電子波長和電子束聚焦后的焦點直徑有關(guān),電子波長可通過增加加速電極電壓來減小波長,而電子束聚焦后
    發(fā)表于 05-07 06:03

    三星在4nm邏輯芯片上實現(xiàn)40%以上的測試良率

    較為激進(jìn)的技術(shù)路線,以挽回局面。 4 月 18 日消息,據(jù)韓媒《ChosunBiz》當(dāng)?shù)貢r間 16 日報道,三星電子在其 4nm 制程 HBM4 內(nèi)存邏輯芯片的初步測試生產(chǎn)中取得了40% 的良率,這高于
    發(fā)表于 04-18 10:52

    成都匯陽投資關(guān)于光刻機概念大漲,后市迎來機會

    進(jìn)制程領(lǐng)域,曝光波長逐漸縮短至13.5nm光刻技術(shù)逐步完善成熟。2024年光刻機市場的規(guī)模為230億美元。2025年光刻機市場的規(guī)模預(yù)計為
    的頭像 發(fā)表于 04-07 09:24 ?466次閱讀

    EUV光刻技術(shù)面臨新挑戰(zhàn)者

    ? EUV光刻有多強?目前來看,沒有EUV光刻,業(yè)界就無法制造7nm制程以下的芯片。EUV
    的頭像 發(fā)表于 02-18 09:31 ?826次閱讀
    <b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>面臨新挑戰(zhàn)者

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    光刻機用納米位移系統(tǒng)設(shè)計
    的頭像 發(fā)表于 02-06 09:38 ?384次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>用納米位移系統(tǒng)設(shè)計

    光刻機的分類與原理

    本文主要介紹光刻機的分類與原理。 ? 光刻機分類 光刻機的分類方式很多。按半導(dǎo)體制造工序分類,光刻設(shè)備有前道和后道之分。前道光刻機包括芯片
    的頭像 發(fā)表于 01-16 09:29 ?1925次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻機</b>的分類與原理

    組成光刻機的各個分系統(tǒng)介紹

    納米級別的分辨率。本文詳細(xì)介紹光刻機的主要組成部分及其功能。 光源系統(tǒng) ? 光源系統(tǒng)是光刻機的心臟,負(fù)責(zé)提供曝光所需的能量。早期的光刻機使用汞燈作為光源,但隨著
    的頭像 發(fā)表于 01-07 10:02 ?1819次閱讀
    組成<b class='flag-5'>光刻機</b>的各個分系統(tǒng)介紹

    日本首臺EUV光刻機就位

    據(jù)日經(jīng)亞洲 12 月 19 日報道,Rapidus 成為日本首家獲得極紫外 (EUV) 光刻設(shè)備的半導(dǎo)體公司,已經(jīng)開始在北海道芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。 它將分四個階段進(jìn)行安裝,設(shè)備安裝預(yù)計在
    的頭像 發(fā)表于 12-20 13:48 ?744次閱讀
    日本首臺<b class='flag-5'>EUV</b><b class='flag-5'>光刻機</b>就位

    用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)介紹

    ? 本文介紹了用來提高光刻機分辨率的浸潤式光刻技術(shù)。 芯片制造:光刻技術(shù)的演進(jìn) 過去半個多世紀(jì),摩爾定律一直推動著半導(dǎo)體
    的頭像 發(fā)表于 11-24 11:04 ?2030次閱讀
    用來提高<b class='flag-5'>光刻機</b>分辨率的浸潤式<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術(shù)</b>介紹

    光刻機的工作原理和分類

    ,是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。芯片的加工過程對精度要求極高,光刻機通過一系列復(fù)雜的技術(shù)手段,光束透射過畫著線路圖的掩模,經(jīng)物鏡補償各種光學(xué)誤差,線路圖成比例縮小后映射到硅片上,然后使
    的頭像 發(fā)表于 11-24 09:16 ?5101次閱讀

    今日看點丨 2011億元!比亞迪單季營收首次超過特斯拉;三星將于2025年初引進(jìn)High NA EUV光刻機

    1. 三星將于2025 年初引進(jìn)High NA EUV 光刻機,加快開發(fā)1nm 芯片 ? 據(jù)報道,三星電子正準(zhǔn)備在2025年初引入其
    發(fā)表于 10-31 10:56 ?976次閱讀

    三星將為DeepX量產(chǎn)5nm AI芯片DX-M1

    人工智能半導(dǎo)體領(lǐng)域的創(chuàng)新者DeepX宣布,其第一代AI芯片DX-M1即將進(jìn)入量產(chǎn)階段。這一里程碑式的進(jìn)展得益于與三星電子代工設(shè)計公司Gaonchips的緊密合作。雙方已正式簽署量產(chǎn)合同,標(biāo)志著DeepX的5nm芯片DX-M1
    的頭像 發(fā)表于 08-10 16:50 ?1443次閱讀

    日本大學(xué)研發(fā)出新極紫外(EUV)光刻技術(shù)

    近日,日本沖繩科學(xué)技術(shù)大學(xué)院大學(xué)(OIST)發(fā)布了一項重大研究報告,宣布該校成功研發(fā)出一種突破性的極紫外(EUV光刻技術(shù)。這一創(chuàng)新技術(shù)超越
    的頭像 發(fā)表于 08-03 12:45 ?1499次閱讀

    今日看點丨ASML今年向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV;理想 L9 出事故司機質(zhì)疑 LCC,產(chǎn)品經(jīng)理回應(yīng)

    1. ASML 今年向臺積電、三星和英特爾交付High-NA EUV ? 根據(jù)報道,芯片制造設(shè)備商ASML今年向臺積電、英特爾、三星交付
    發(fā)表于 06-06 11:09 ?1001次閱讀