10月7日，臺(tái)積電宣布，其業(yè)界首款可商用的極紫外（EUV）光刻技術(shù)七納米plus（N7+）將向客戶交付產(chǎn)品。采用EUV技術(shù)的N7+工藝建立在臺(tái)積電成功的7nm節(jié)點(diǎn)之上，為6nm及更先進(jìn)的技術(shù)鋪平了道路。

N7+的量產(chǎn)是有史記錄以來最快之一。N7+于2019年第二季度開始量產(chǎn)，其產(chǎn)量與最初的N7工藝（已超過一年的產(chǎn)量）相近。

N7+還提供了改進(jìn)的整體性能。與N7工藝相比，N7+的密度提高了15％至20％，并降低了功耗，這使其成為行業(yè)下一波產(chǎn)品越來越受歡迎的首選。臺(tái)積電一直在快速部署容量以滿足由多個(gè)客戶驅(qū)動(dòng)的N7+需求。

EUV技術(shù)使臺(tái)積電能夠繼續(xù)推動(dòng)芯片尺寸的開發(fā)，因?yàn)檩^短波長(zhǎng)的EUV光能夠更好地打印出先進(jìn)技術(shù)設(shè)計(jì)的納米級(jí)特征。臺(tái)積電的EUV工具已達(dá)到生產(chǎn)成熟度，工具的可用性已達(dá)到批量生產(chǎn)的目標(biāo)，并且在日常操作中的輸出功率大于250瓦。

“隨著AI和5G的不斷涌現(xiàn)，使IC改善生活的新方法如此之多，我們的客戶充滿了創(chuàng)新的前沿設(shè)計(jì)理念，他們依靠臺(tái)積電的技術(shù)和制造來使它們成為現(xiàn)實(shí)，”臺(tái)積電業(yè)務(wù)發(fā)展副總裁張凱文博士說。“我們?cè)贓UV上的成功讓臺(tái)積電不僅使那些領(lǐng)先的設(shè)計(jì)成為可能，而且憑借我們卓越的制造能力實(shí)現(xiàn)了大批量交付的又一個(gè)很好的例子。”

基于其成功的經(jīng)驗(yàn)，N7+為未來的先進(jìn)工藝技術(shù)奠定了基礎(chǔ)。臺(tái)積電將在2020年第一季度將N6技術(shù)投入風(fēng)險(xiǎn)生產(chǎn)，并在年底之前實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。隨著EUV的進(jìn)一步應(yīng)用，N6的邏輯密度將比N7高18％，并且與N7完全兼容的設(shè)計(jì)規(guī)則使客戶可以大大縮短產(chǎn)品上市時(shí)間。