完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識(shí)你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>
標(biāo)簽 > euv
EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預(yù)計(jì)在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了,EUV已經(jīng)遇到了一些延遲,將技術(shù)從一個(gè)節(jié)點(diǎn)推向下一個(gè)階段,本單元詳細(xì)介紹了EUV光刻機(jī),EUV光刻機(jī)技術(shù)的技術(shù)應(yīng)用,EUV光刻機(jī)的技術(shù)、市場(chǎng)問題,國(guó)產(chǎn)euv光刻機(jī)發(fā)展等內(nèi)容。
文章:595個(gè) 瀏覽:86933次 帖子:0個(gè)
日本信越化學(xué)將斥資300億日元,把光刻膠的產(chǎn)能提高20%
根據(jù)報(bào)道,信越化學(xué)將會(huì)在日本和臺(tái)灣地區(qū)興建工廠,位于臺(tái)灣地區(qū)云林工廠將先完成,預(yù)計(jì)2020年2月開始量產(chǎn),屆時(shí)信越化學(xué)將得以在臺(tái)灣地區(qū)生產(chǎn)可與極紫外光(...
EUV工藝已拉響戰(zhàn)局 美光計(jì)劃在2021年持續(xù)加碼投資DRAM
美光計(jì)劃在 2021 年提出建設(shè) A5 廠項(xiàng)目的申請(qǐng),持續(xù)加碼投資 DRAM,將用于 1Znm 制程之后的微縮技術(shù)發(fā)展。 據(jù)悉,目前美光在臺(tái)灣地區(qū)布局,...
EUV光刻機(jī)爭(zhēng)奪戰(zhàn)背后:三星為何優(yōu)勢(shì)不及臺(tái)積電?
三星電子李在镕副會(huì)長(zhǎng)于10月13日緊急訪問了荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備廠家ASML,并與ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin v...
在采用了EUV的半導(dǎo)體微縮化方面,臺(tái)積電(TSMC)全球領(lǐng)先。作為存儲(chǔ)半導(dǎo)體的“冠軍”——三星電子計(jì)劃在2030年之前在邏輯半導(dǎo)體的生產(chǎn)方面趕上臺(tái)積電。...
三星要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付9臺(tái)EUV光刻設(shè)備
據(jù)韓媒報(bào)道,三星副董事長(zhǎng)李在镕在訪問荷蘭期間,在會(huì)議上要求ASML在一個(gè)月內(nèi)交付三星已購(gòu)買的9臺(tái)EUV光刻設(shè)備。 報(bào)道稱,ASML正在審查三星的要求,這...
EUV光刻機(jī)加持,SK海力士宣布明年量產(chǎn)EUV工藝內(nèi)存
ASML公司的EUV光刻機(jī)全球獨(dú)一份,現(xiàn)在主要是用在7nm及以下的邏輯工藝上,臺(tái)積電、三星用它生產(chǎn)CPU、GPU等芯片。馬上內(nèi)存芯片也要跟進(jìn)了,SK海力...
三星李在镕親自到歐洲斡旋購(gòu)買光刻機(jī) 追擊臺(tái)積電火力全開
韓國(guó)財(cái)經(jīng)媒體Business Korea報(bào)導(dǎo),三星電子副會(huì)長(zhǎng)、三星集團(tuán)實(shí)際大當(dāng)家李在镕上周到荷蘭拜訪ASML談合作,最重要目的其實(shí)是親自催促對(duì)方,提前1...
爆AMD的Zen3處理器細(xì)節(jié):或?qū)⒁隕UV光刻工藝
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級(jí)別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。
AMD的銳龍5000系列處理器下月初就要上市了,全新的Zen3架構(gòu)IPC性能大漲,不過工藝上面依然是7nm級(jí)別的,官方稱之為更成熟的7nm工藝。 最早的...
我國(guó)芯片的國(guó)產(chǎn)替代道路遭遇阻礙?
與此同時(shí),美國(guó)的作法也給我們帶來提示,不僅要掌握自己的核心技術(shù),還要守護(hù)好核心技術(shù),作法就可以參照美國(guó)的出口管制辦法。而事實(shí)上,我國(guó)也確實(shí)是這么做的。前...
臺(tái)積電透露其3nm制程工藝的細(xì)節(jié)
另外,該報(bào)道稱臺(tái)積電將會(huì)積極采購(gòu)EUV光刻機(jī)設(shè)備,未來3~5年仍將是擁有全球最大EUV產(chǎn)能的半導(dǎo)體廠。
當(dāng)?shù)貢r(shí)間10月14日,半導(dǎo)體巨頭、全球光刻機(jī)領(lǐng)頭企業(yè)ASML首席財(cái)務(wù)官羅杰達(dá)森(Roger Dassen),對(duì)向中國(guó)出口光刻機(jī)的問題作出了表態(tài)。他表示,...
ASML的EUV光刻機(jī)已成臺(tái)積電未來發(fā)展的“逆鱗”
臺(tái)積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
Trumpf的業(yè)務(wù)受極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的強(qiáng)勁需求而振奮
“激光器技術(shù)部門的銷售業(yè)績(jī)明顯低于2019年。”Trumpf表示,“其原因除汽車行業(yè)的結(jié)構(gòu)變化以及由此產(chǎn)生的投資意愿下降外,還有歐洲和中國(guó)市場(chǎng)業(yè)績(jī)的下滑...
ASML的EUV光刻機(jī)是目前全球唯一可以滿足22nm以下制程芯片生產(chǎn)的設(shè)備,其中10nm及以下的芯片制造,EUV光刻機(jī)必不可缺。一臺(tái)EUV光刻機(jī)的售價(jià)為...
AMSL宣布:無須美國(guó)許可同意可向中國(guó)供貨DUV光刻機(jī),但EUV受限
光刻機(jī),在整個(gè)芯片生產(chǎn)制造環(huán)節(jié),是最最最核心的設(shè)備,技術(shù)難度極高。在全球光刻機(jī)市場(chǎng),日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據(jù)了市場(chǎng)90%以上份額。而最...
臺(tái)積電宣布5nm工藝已經(jīng)量產(chǎn),也在提升EUV工藝的效率及性能
在先進(jìn)半導(dǎo)體工藝上,臺(tái)積電已經(jīng)一騎絕塵了,其他人望不到尾燈了,今年量產(chǎn)了5nm,明年就輪到3nm了。
中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的機(jī)會(huì)
伴隨 5G、AIoT的發(fā)展和國(guó)際關(guān)系的日漸緊張之下,集成電路產(chǎn)業(yè)逐漸受到一致關(guān)注。 2020 年 10 月 14 日, 第三屆全球IC企業(yè)家大會(huì)暨第十八...
本土晶圓代工企業(yè)崛起之際,設(shè)備進(jìn)口議題備受關(guān)注。光刻機(jī)龍頭ASML近日表示,從荷蘭向中國(guó)出口DUV光刻機(jī)無需許可證。
此外,由于光刻加工分辨率直接關(guān)系到芯片特征尺寸大小,而光刻膠的性能關(guān)系到光刻分辨率的大小。限制光刻分辨率的是光的干涉和衍射效應(yīng)。光刻分辨率與曝光波長(zhǎng)、數(shù)...
編輯推薦廠商產(chǎn)品技術(shù)軟件/工具OS/語言教程專題
電機(jī)控制 | DSP | 氮化鎵 | 功率放大器 | ChatGPT | 自動(dòng)駕駛 | TI | 瑞薩電子 |
BLDC | PLC | 碳化硅 | 二極管 | OpenAI | 元宇宙 | 安森美 | ADI |
無刷電機(jī) | FOC | IGBT | 逆變器 | 文心一言 | 5G | 英飛凌 | 羅姆 |
直流電機(jī) | PID | MOSFET | 傳感器 | 人工智能 | 物聯(lián)網(wǎng) | NXP | 賽靈思 |
步進(jìn)電機(jī) | SPWM | 充電樁 | IPM | 機(jī)器視覺 | 無人機(jī) | 三菱電機(jī) | ST |
伺服電機(jī) | SVPWM | 光伏發(fā)電 | UPS | AR | 智能電網(wǎng) | 國(guó)民技術(shù) | Microchip |
Arduino | BeagleBone | 樹莓派 | STM32 | MSP430 | EFM32 | ARM mbed | EDA |
示波器 | LPC | imx8 | PSoC | Altium Designer | Allegro | Mentor | Pads |
OrCAD | Cadence | AutoCAD | 華秋DFM | Keil | MATLAB | MPLAB | Quartus |
C++ | Java | Python | JavaScript | node.js | RISC-V | verilog | Tensorflow |
Android | iOS | linux | RTOS | FreeRTOS | LiteOS | RT-THread | uCOS |
DuerOS | Brillo | Windows11 | HarmonyOS |