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標(biāo)簽 > 晶圓
晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱(chēng)為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。
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WAT是英文 Wafer Acceptance Test 的縮寫(xiě),意思是晶圓接受測(cè)試,業(yè)界也稱(chēng)WAT 為工藝控制監(jiān)測(cè)(Process Control M...
頂層金屬 AI工藝是指形成頂層金屬 AI 互連線(xiàn)。因?yàn)?Cu很容易在空氣中氧化,形成疏松的氧化銅,而且不會(huì)形成保護(hù)層防止銅進(jìn)一步氧化,另外,Cu 是軟金...
? 當(dāng)今科技迅速發(fā)展,超短脈沖激光技術(shù)作為一項(xiàng)重要的特種加工技術(shù),引起了廣泛關(guān)注。超短脈沖激光以其極短的脈沖寬度和高能量密度,在微納加工領(lǐng)域備受矚目。在...
一文了解晶圓級(jí)封裝中的垂直互連結(jié)構(gòu)
隨著電子產(chǎn)品需求的不斷提升,半導(dǎo)體封裝技術(shù)的發(fā)展已經(jīng)從2D 結(jié)構(gòu)發(fā)展到2.5D 乃至3D結(jié)構(gòu),這對(duì)包括高密度集成和異質(zhì)結(jié)構(gòu)封裝在內(nèi)的系統(tǒng)級(jí)封裝(Syst...
本文詳細(xì)介紹了在集成電路的制造和測(cè)試過(guò)程中CP測(cè)試(Chip Probing)和WAT測(cè)試(Wafer Acceptance Test)的目的、測(cè)試對(duì)象...
晶圓表面潔凈度會(huì)極大的影響后續(xù)半導(dǎo)體工藝及產(chǎn)品的合格率。在所有產(chǎn)額損失中,高達(dá)50%是源自于晶圓表面污染。 能夠?qū)е缕骷姎庑阅芑蚱骷圃爝^(guò)程發(fā)生不受控...
金屬層1工藝是指形成第一層金屬互連線(xiàn),第一層金屬互連線(xiàn)的目的是實(shí)現(xiàn)把不同區(qū)域的接觸孔連起來(lái),以及把不同區(qū)域的通孔1連起來(lái)。第一金屬層是大馬士革的銅結(jié)構(gòu),...
SiC外延生長(zhǎng)技術(shù)的生產(chǎn)過(guò)程及注意事項(xiàng)
SiC外延生長(zhǎng)技術(shù)是SiC功率器件制備的核心技術(shù)之一,外延質(zhì)量直接影響SiC器件的性能。目前應(yīng)用較多的SiC外延生長(zhǎng)方法是化學(xué)氣相沉積(CVD),本文簡(jiǎn)...
CMS系列連接器在晶圓級(jí)電性參數(shù)測(cè)試設(shè)備中的應(yīng)用
01應(yīng)用場(chǎng)景在集成電路的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)、工藝制造和產(chǎn)品驗(yàn)證過(guò)程中,對(duì)電性參數(shù)測(cè)試的需求日益提高。芯片設(shè)計(jì)類(lèi)企業(yè)、代工制造類(lèi)企業(yè)、垂和研發(fā)實(shí)驗(yàn)室,都需要完成多種...
2024-11-09 標(biāo)簽:連接器晶圓測(cè)試設(shè)備 376 0
與亞微米工藝類(lèi)似,源漏離子注入工藝是指形成器件的源漏有源區(qū)重?fù)诫s的工藝,降低器件有源區(qū)的串聯(lián)電阻,提高器件的速度。同時(shí)源漏離子注入也會(huì)形成n型和p型阱接...
在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,晶圓級(jí)凸點(diǎn)制作是一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù),對(duì)于提高集成電路的集成度和性能具有重要意義。其中,甲酸回流工藝作為一種重要的凸點(diǎn)制作方法,因其具有工藝簡(jiǎn)...
2024-11-07 標(biāo)簽:晶圓半導(dǎo)體封裝回流 1342 0
與亞微米工藝類(lèi)似,多晶硅柵工藝是指形成 MOS器件的多晶硅柵極,柵極的作用是控制器件的關(guān)閉或者導(dǎo)通。淀積的多晶硅是未摻雜的,它是通過(guò)后續(xù)的源漏離子注入進(jìn)...
摘要:在智能手機(jī)、TWS耳機(jī)、智能手表等熱門(mén)小型化消費(fèi)電子市場(chǎng)帶動(dòng)下,SiP(System in a Package系統(tǒng)級(jí)封裝)迎來(lái)了更大的發(fā)展機(jī)會(huì)。根...
在半導(dǎo)體制造流程中,晶圓測(cè)試是確保產(chǎn)品質(zhì)量和性能的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。與此同時(shí)封裝過(guò)程中的缺陷對(duì)半導(dǎo)體器件的性能和可靠性具有重要影響,本文就上述兩個(gè)方面進(jìn)行介紹。
在集成電路(IC)制造與測(cè)試過(guò)程中,CP(ChipProbing,晶圓探針測(cè)試)和FT(FinalTest,最終測(cè)試)是兩個(gè)重要的環(huán)節(jié),它們承擔(dān)了不同的...
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