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標(biāo)簽 > 掩膜
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微流控光刻掩膜的制作過(guò)程涉及多個(gè)步驟,?包括設(shè)計(jì)、?制版、?曝光、?顯影、?刻蝕等,?最終形成具有特定圖形結(jié)構(gòu)的掩膜版。? 首先,?設(shè)計(jì)階段是制作掩膜版...
SPIE Proceedings | 無(wú)透鏡極紫外掩膜缺陷分析
有人說(shuō)芯片制造代表人類制造業(yè)和工業(yè)分工的頂峰,一個(gè)指甲蓋大小的芯片上,往往集中排列著上百億個(gè)晶體管。而近些年越來(lái)越為大家熟知的光刻機(jī)只是制造芯片的開始,...
掩膜版作為微納加工技術(shù)中光刻工藝所使用的圖形母版,在IC、平版顯示器、印刷電路版、微機(jī)電系統(tǒng)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。隨著信息技術(shù)和智能制造的快速發(fā)展,特別...
正性光刻對(duì)掩膜版的要求主要包括以下幾個(gè)方面: 基板材料:掩膜版的基板材料需要具有良好的透光性、穩(wěn)定性以及表面平整度。石英是常用的基板材料,因?yàn)樗哂休^低...
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