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      標(biāo)簽　>　光刻

      光刻

      +關(guān)注7人關(guān)注

      光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導(dǎo)體晶片表面的掩蔽物（如二氧化硅）進(jìn)行開孔，以便進(jìn)行雜質(zhì)的定域擴(kuò)散的一種加工技術(shù)。

      文章：280個 瀏覽：30594次 帖子：5個

      光刻資訊

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      2023-01-11 標(biāo)簽：光纖光刻 941 0

      10.8.5 光刻-電鍍-注塑技術(shù)（LIGA）∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

      10.8.5 光刻-電鍍-注塑技術(shù)（LIGA）∈《集成電路產(chǎn)業(yè)全書》

      點(diǎn)擊上方藍(lán)字關(guān)注我們Lithographie-Galvanoformung-Abformung（LIGA）審稿人：北京大學(xué)王瑋審稿人：北京大學(xué)張興蔡一茂...

      2022-05-24 標(biāo)簽：集成電路光刻 499 0

      泛林集團(tuán)邀您共享CSTIC 2023技術(shù)盛會

      中國年度半導(dǎo)體技術(shù)盛會——中國國際半導(dǎo)體技術(shù)大會(CSTIC)將于2023年6月26-27日在上海國際會議中心舉辦。近百位世界領(lǐng)先的行業(yè)及學(xué)術(shù)專家匯聚一...

      2023-06-19 標(biāo)簽：集成電路半導(dǎo)體光刻 1842 0

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      2023-06-02 標(biāo)簽：模塊晶圓光刻 1158 0

      無需FMM，京東方研發(fā)出光刻AMQLED

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      2023-04-27 標(biāo)簽：晶圓廠光刻EUV 1232 0

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      2023-04-25 標(biāo)簽：晶圓光刻EUV 832 0

      好消息！國產(chǎn)EDA龍頭，華大九天支持5nm先進(jìn)工藝，已開始商業(yè)化！

      自主、可控、創(chuàng)新、突破 1 前言 大家好，我是硬件花園！ 2月13日，華大九天宣布，公司部分?jǐn)?shù)字工具支持5nm，并且已經(jīng)實(shí)現(xiàn)商業(yè)化！ 在接受機(jī)構(gòu)調(diào)研時，...

      2023-04-20 標(biāo)簽：芯片集成電路eda 2810 0

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      攻克光子芯片制程中光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝 陜西先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺全面啟用

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      陜西光電子先導(dǎo)院先進(jìn)光子器件工程創(chuàng)新平臺3月30日在西安全面啟用。該平臺具備光子芯片制程中的光刻、刻蝕、蒸鍍等多項(xiàng)核心工藝，將為光子產(chǎn)業(yè)項(xiàng)目提供產(chǎn)品研發(fā)...

      2023-03-30 標(biāo)簽：芯片半導(dǎo)體光刻 909 0

      GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍

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      　晶圓的定位精度達(dá)到四分之一納米，并且每秒對準(zhǔn)2萬次以消除任何振動的影響。光刻之前的步驟同樣令人不可思議。

      2023-03-22 標(biāo)簽：NVIDIA光刻gtc 1850 0

      紫光褪去，***未來會是怎樣？

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      今天安瑪芯城小編跟大家一起探討關(guān)于國產(chǎn)芯片的一些知識，2009年，紫光集團(tuán)的資產(chǎn)僅為13億美元。在六年內(nèi)，資產(chǎn)迅速膨脹到1000億。早在2019年，這一...

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      高功率UV-LED正在替代傳統(tǒng)汞燈，成為光刻機(jī)的曝光光源，可用于大基板的紫外曝光系統(tǒng)

      2023-02-22 標(biāo)簽：半導(dǎo)體光刻紫外 1273 0

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      盡管 EUV 正朝著全面商業(yè)化的方向發(fā)展，并受到半導(dǎo)體行業(yè)的廣泛關(guān)注，但半導(dǎo)體生產(chǎn)商對 NIL（納米壓印）和 DSA（引導(dǎo)自組裝）等替代技術(shù)的研究和開發(fā)...

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      晶圓上繪制電路光刻工藝的基本步驟

      光刻膠經(jīng)曝光后，其化學(xué)性質(zhì)會發(fā)生改變。更準(zhǔn)確地說，經(jīng)曝光后，光刻膠在顯影液中的溶解度發(fā)生了變化：曝光后溶解度上升的物質(zhì)稱作正性（Positive）光刻膠...

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      掩膜版行業(yè)基本概述

      掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

      2023-01-09 標(biāo)簽：半導(dǎo)體制造業(yè)光刻 3650 0

      基于富硫聚合物的高靈敏紅外偏振器

      與常規(guī)紅外材料不同，富硫聚合物可溶解在有機(jī)溶劑中，這意味著其可應(yīng)用于基于溶液的旋涂方法。此外，富硫聚合物擁有的粘滯彈性和動態(tài)共價二硫鍵使其可被熱納米壓印...

      2023-01-05 標(biāo)簽：紅外光刻偏振 765 0

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        AMS1117系列穩(wěn)壓器有可調(diào)版與多種固定電壓版，設(shè)計(jì)用于提供1A輸出電流且工作壓差可低至1V。在最大輸出電流時，AMS1117器件的最小壓差保證不超過1.3V，并隨負(fù)載電流的減小而逐漸降低。
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        DA轉(zhuǎn)換器一般指數(shù)模轉(zhuǎn)換器。它是把數(shù)字量轉(zhuǎn)變成模擬的器件。D/A轉(zhuǎn)換器基本上由4個部分組成，即權(quán)電阻網(wǎng)絡(luò)、運(yùn)算放大器、基準(zhǔn)電源和模擬開關(guān)。模數(shù)轉(zhuǎn)換器中一般都要用到數(shù)模轉(zhuǎn)換器，模數(shù)轉(zhuǎn)換器即A/D轉(zhuǎn)換器，簡稱ADC，它是把連續(xù)的模擬信號轉(zhuǎn)變?yōu)殡x散的數(shù)字信號的器件。
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        +關(guān)注
        TTP223是觸摸鍵檢測IC，提供1個觸摸鍵。觸摸檢測IC是為了用可變面積的鍵取代傳統(tǒng)的按鈕鍵而設(shè)計(jì)的。低功耗和寬工作電壓是觸摸鍵的DC和AC特點(diǎn)。111
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      松玥a jf_92148107 jf_02593861 jf_55870080 jf_85333630 jf_07556477 jf_44990220 夜漠寒

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