聊聊芯片設計、流片那些事

晶圓廠每年都會有固定的幾次MPW機會，叫Shuttle （班車），到點即發車，是不是非常形象不同公司拼Wafer，得有個規則，MPW按SEAT來鎖定面積...

2023-10-10 標簽：MPW芯片設計光刻 2693 0

半導體制造之光刻原理、工藝流程

光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產業的關鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學敏感性的混合液體。其利用光化...

2023-10-09 標簽：電路圖光刻光刻機 4375 0

芯片架構計算任務改變對計算架構的需求

漸進式改進與性能的巨大飛躍相結合，雖然這些改進將計算和分析能力提升到全新水平，但也需要全新的權衡考慮。這些變革的核心在于高度定制的芯片架構，芯片是在最先...

2023-09-27 標簽：傳感器芯片內存 1284 0

極紫外 (EUVL) 光刻設備技術應用分析

歐洲極紫外光刻（EUVL）技術利用波長為13.5納米的光子來制造集成電路。產生這種光的主要來源是使用強大激光器產生的熱錫等離子體。激光參數被調整以產生大...

2023-09-25 標簽：濾波器激光器光刻 1533 0

DUV與EUV***的芯片加工流程詳解

SSMB就產生了和FEL類似的“微聚束”，但是關鍵還加上了“穩態”。FEL不是穩態，電子團在波蕩器里自由互相作用，最后發出強光完事。SSMB是讓電子束在...

2023-09-22 標簽：芯片芯片制造光刻 3671 0

考慮光刻中厚掩模效應的邊界層模型

短波長透明光學元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件...

2023-08-25 標簽：光刻掩模 695 0

研究人員制造出直徑近30厘米的光學超表面

再見鏡頭，你好超表面。所謂的超表面可以幫助使光學系統在未來變得更薄，同時增加其功能。 到目前為止，傳統的制造工藝通常只能實現小的超表面，通常小于一平方毫...

2023-08-07 標簽：光刻電子束 917 0

光刻技術的發展如何彎道超車或者換道超車

三十年來，半導體掩模技術基本保持不變，掩模的制作是在可變成形機上進行的，這些機器將可變元件限制在 45 度角。隨著功能縮小并變得更加復雜，電子束和多束掩...

2023-08-01 標簽：光刻EUV光刻膠 661 0

cmp是什么意思 cmp工藝原理

CMP 主要負責對晶圓表面實現平坦化。晶圓制造前道加工環節主要包括7個相互獨立的工藝流程：光刻、刻蝕、薄膜生長、擴散、離子注入、化學機械拋光、金屬化 C...

2023-07-18 標簽：光刻CMP晶圓制造 1.9萬 1

Overlay如何與EUV圖案保持同步

套刻計量（Overlay metrology）工具可提高精度，同時提供可接受的吞吐量，解決日益復雜的設備中的競爭要求。

2023-07-10 標簽：內存光刻機器學習 2142 0

《先進半導體封裝材料及工藝-2023版》

從封裝的角度來看，要提高帶寬，需要考慮兩個關鍵因素：I/O（輸入/輸出）總數和每個I/O的比特率。增加I/O總數需要在每個布線層/再分布層（RDL）中實...

2023-07-05 標簽：光刻半導體封裝3D芯片 984 0

半導體圖案化工藝流程之刻蝕(一)

圖案化工藝包括曝光(Exposure)、顯影(Develope)、刻蝕(Etching)和離子注入等流程。其中，刻蝕工藝是光刻(Photo)工藝的下一步...

2023-06-26 標簽：半導體晶圓光刻 2034 0

綜述：聚合物薄膜的非光刻圖案化方法

非光刻圖案化方法可以從圖案設計的自由度上分為三大類，第一類能夠自由形成任意圖案，主要包括掃描探針刻印（SPL）和噴墨打印；第二類需要在模板或預圖案化基材...

2023-06-21 標簽：傳感器光刻噴墨打印 2520 0

面向光刻的設計規則建立及優化

中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設...

2023-06-14 標簽：集成電路光刻微電子 520 0

半導體制造光刻工藝制作流程

金屬-氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。MOSFET體積越小，單個 MOSFET的耗電量...

2023-06-13 標簽：MOSFET光刻 1159 0

半導體制備的主要方法

光刻法是微電子工藝中的核心技術之一，常用于形成半導體設備上的微小圖案。過程開始于在硅片上涂布光刻膠，隨后對其進行預熱。接著，選擇一種光源（如深紫外光或X...

2023-06-09 標簽：半導體工藝光刻 5403 0

一文看懂EUV光刻

極紫外 (EUV) 光刻系統是當今使用的最先進的光刻系統。本文將介紹這項重要但復雜的技術。

2023-06-06 標簽：半導體晶圓光刻 1501 0