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      標簽　>　光刻技術

      光刻技術

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      隨著半導體技術的發展，光刻技術傳遞圖形的尺寸限度縮小了2～3個數量級（從毫米級到亞微米級），已從常規光學技術發展到應用電子束、 X射線、微離子束、激光等新技術；使用波長已從4000埃擴展到 0.1埃數量級范圍。光刻技術成為一種精密的微細加工技術。

      文章：144個 瀏覽：16158次 帖子：5個

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      新思科技Fusion技術助力三星7LPP EUV工藝降低功耗、縮小面積并提高性能

      新思科技設計事業部營銷與商務開發副總裁Michael Jackson表示：“我們與三星的工具和參考流程合作重點在于使設計人員能夠使用三星最新的EUV 7...

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      芯片升級神助攻 光刻技術你了解多少？

      光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。

      2018-04-22 標簽：光刻技術 3698 0

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