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APC 技術(shù)在刻蝕工藝過(guò)程控制中的研究進(jìn)展
王巍 1，吳志剛2
1（重慶郵電學(xué)院光電工程系， 重慶 400065）
2（電子科技大學(xué)電子工程學(xué)院，成都 610054）
摘要：APC 是一個(gè)多層次的控制系統(tǒng)，其包含了實(shí)時(shí)的設(shè)備及工藝控制和非實(shí)時(shí)的RtR 控制。APC 引入等離子體刻蝕過(guò)程控制可極大提高等離子刻蝕機(jī)的使用效率和產(chǎn)品成品率，適應(yīng)當(dāng)前深亞微米半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展的需求。針對(duì)等離子體刻蝕機(jī)及其刻蝕工藝過(guò)程控制的需求，本文分別從實(shí)時(shí)控制和RtR 控制兩個(gè)不同層次展開(kāi)了論述，討論了APC 技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。
關(guān)鍵詞：等離子體刻蝕，APC，實(shí)時(shí)反饋控制，Run-to-Run 控制
王巍 1，吳志剛2
1（重慶郵電學(xué)院光電工程系， 重慶 400065）
2（電子科技大學(xué)電子工程學(xué)院，成都 610054）
摘要：APC 是一個(gè)多層次的控制系統(tǒng)，其包含了實(shí)時(shí)的設(shè)備及工藝控制和非實(shí)時(shí)的RtR 控制。APC 引入等離子體刻蝕過(guò)程控制可極大提高等離子刻蝕機(jī)的使用效率和產(chǎn)品成品率，適應(yīng)當(dāng)前深亞微米半導(dǎo)體工藝技術(shù)發(fā)展的需求。針對(duì)等離子體刻蝕機(jī)及其刻蝕工藝過(guò)程控制的需求，本文分別從實(shí)時(shí)控制和RtR 控制兩個(gè)不同層次展開(kāi)了論述，討論了APC 技術(shù)的發(fā)展趨勢(shì)。
關(guān)鍵詞：等離子體刻蝕，APC，實(shí)時(shí)反饋控制，Run-to-Run 控制
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