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      電子發燒友網>電子資料下載>電源技術>新型半導體材料的介紹及其技術的發展概括

      新型半導體材料的介紹及其技術的發展概括

      2017-09-25 | rar | 0.2 MB | 次下載 | 免費

      資料介紹

      　　隨著硅基電力電子器件逐漸接近其物理極限值，新型半導體材料以更大的禁帶寬度、電子飽和漂移速度更快為特點，制造出的半導體器件具有優異的光電性能、高速、高頻、大功率、耐高溫和高輻射等特征，在光電器件、微波器件和電力電子器件具有先天優勢。

      　　新型半導體材料的介紹及其技術的發展概括

      　　數據來源：網絡

      　　Gartner每年發布的技術成熟度曲線已經成為科技和投資界一場盛事。Gartner長期致力于通過技術成熟度曲線研究，對不同領域的技術和趨勢做出評估，指導政府、科研企業、投資界在最佳時間采用這些技術或者切入該市場。該曲線按照技術觸發期、期望膨脹期、幻覺破滅谷底期、復蘇期、成熟期分為五個階段。并同時按照距離主流應用的時間分組為“少于2年”，“2-5年”，“5-10年”和“10年以上”分為4個級別。并用這5個階段和4個級別完成一個優先權矩陣，用于評估投資該市場的風險。

      　　新型半導體材料的介紹及其技術的發展概括

      　　2016技術成熟度曲線（來源：Gartner 2016年7月）

      　　新型半導體材料主要是以砷化鎵（GaAs）、氮化鎵（GaN）和碳化硅（SiC）為代表的化合物半導體材料和以石墨烯為代表的碳基材料。了解每種新型材料及其應用在技術成熟度曲線的位置，對我們研發、投資切入有著極其重要的意義。

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