離子束注入技術概述
基本原理：離子束射到固體材料以后，受到固體材料的抵抗而速度慢慢減低下來，并最終停留在固體材料中，這一現象就叫做離子注入。
用能量為100keV量級的離子束入射到材料中去，離子束與材料中的原子或分子將發生一系列物理的和化學的相互作用，入射離子逐漸損失能量，最后停留在材料中，并引起材料表面成分、結構和性能發生變化，從而優化材料表面性能，或獲得某些新的優異性能。此項高新技術由于其獨特而突出的優點，已經在半導體材料摻雜，金屬、陶瓷、高分子聚合物等的表面改性上獲得了極為廣泛的應用，取得了巨大的經濟效益和社會效益。?

M EVVA（Metal Vapor Vacuum Arc ）源是金屬蒸汽真空弧離子源的縮稱。這是上世紀80年代中期由美國加州大學伯克利分校的布朗博士由于核物理研究的需要發明研制成功的。
其革命性在于
????????? 適用元素種類多；蒸汽純度取決于陰極材料；省去質量分析儀；發散束流提高加工效率；等等
????????? 本人認為這項技術將會在機械行業中大展身手，會被更多的應用到高新材料的表面改性等常規做法不合適的場合
離子束注入技術設備概述
離子注入機：
（1）離子源，用于產生和引出某種元素的離子束，這是離子注入機的源頭；
（2）加速器，對離子源引出的離子束進行加速，使其達到所需的能量；
（3）離子束的質量分析（離子種類的選擇）；
（4）離子束的約束與控制；
（5）靶室；
（6）真空系統。
當然了，如果是MEVVA的話，設備將大大簡化。
離子注入技術應用
離子注入應用于半導體摻雜工藝
????????? 集成電路、功率等電氣性能
離子注入應用于表面改性
????????? 抗腐蝕、硬度、耐磨、潤滑、超導導線鈮線注錫
離子注入應用于光波導
????????? 光纖網絡、光纖傳感器