目 錄
第一章 半導(dǎo)體的基礎(chǔ)知識(shí)
1-1半導(dǎo)體的一些基本概念
1-1-1什么是半導(dǎo)體？……………………………………………………4
1-1-2 半導(dǎo)體的基本特性………………………………………………. .4
1-1-3 半導(dǎo)體的分類(lèi)……………………………………………………...4
1-1-4 N型半導(dǎo)體和P型半導(dǎo)體……………………………………….5
1-1-5 半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)構(gòu)……………………………………………….6
1-2 P-N結(jié)………………………………………………………………………9
1-2-1 P-N結(jié)的構(gòu)成…………………………………………………….9
1-2-2 P-N結(jié)內(nèi)的載流子運(yùn)動(dòng)和平衡…………………………………10
1-2-3 P-N結(jié)的基本特性………………………………………………10
1-3 二極管………………………………………………………...……………12
1-3-1 二極管的基本構(gòu)成………………………………………………..12
1-3-2 二極管的特性曲線（伏安特性）………………...…………….12
1-3-3 二極管的分類(lèi)……………………………………………………13
1-4 晶體管（僅講雙極型）……………………………………………………13
1-4-1 晶體管的構(gòu)成…………………………………………………….13
1-4-2 晶體管的放大原理……………………………………………….15
1-4-3 晶體管的特性曲線……………………………………………….18
1-4-4 晶體管的分類(lèi)…………………………………………………….21
1-4-5 晶體管的主要電參數(shù)…………………………………………….21

第二章 晶體管制造工藝與原理
2-1 典型產(chǎn)品工藝流程……………………..…...………………………………24
2-1-1 晶體管的基本工藝流程…………………………………………..24
2-1-2 典型產(chǎn)品的工藝流程…………………………………...…………24
2-2 晶體管制造主要工藝的作用與原理……………...………………………..25
2-2-1 氧化工藝…………………………………………………………..25
2-2-2 擴(kuò)散工藝…………………………………………………………..26
2-2-3 離子注入工藝……………………………………………………..30
2-2-4 光刻工藝…………………………………………………………..31
2-2-5 蒸發(fā)（真空鍍膜）工藝…………………………………………..32
2-2-6 CVD工藝…………………………………………………………..33
2-2-7 臺(tái)面工藝…………………………………………………………..34
2-2-8 三擴(kuò)、磨拋工藝…………………………………………………..35
2-2-9 清洗工藝…………………………………………………………..36
2-2-10 中測(cè)、劃片工藝…………………………………………………36
2-3 常見(jiàn)的工藝質(zhì)量問(wèn)題以及對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量的影響……………………………….37
2-3-1 工藝質(zhì)量問(wèn)題分類(lèi)…………………………………………………37
2-3-2 常見(jiàn)的工藝質(zhì)量問(wèn)題舉例…………………………………………37
2-4 工藝紀(jì)律和工藝衛(wèi)生的重要性……………………………………………….41
2-4-1 半導(dǎo)體生產(chǎn)對(duì)空氣潔凈度的要求…………………………………41
2-4-2 工藝衛(wèi)生的內(nèi)涵…………………………………………………..42
2-4-3 工藝衛(wèi)生好壞對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)的影響……………………………..42
2-4-4 工藝紀(jì)律的內(nèi)涵…………………………………………………..43
2-4-5 工藝紀(jì)律的重要性………………………………………………..43