電子發(fā)燒友網(wǎng)訊：上個(gè)星期，第四十二屆美國西部半導(dǎo)體展在舊金山莫斯康展覽中心舉行，參加展會(huì)的人數(shù)超過29000個(gè)，這是一個(gè)為生產(chǎn)設(shè)備和材料供應(yīng)商提供的貿(mào)易戰(zhàn)，每年舉辦一屆。與此同時(shí)，展示太陽能設(shè)備的國際太陽能科技展覽會(huì)也和這個(gè)半導(dǎo)體展一樣在這個(gè)地方舉行了很多屆。

　　據(jù)每年舉辦這個(gè)展覽會(huì)的晶圓設(shè)備供應(yīng)商貿(mào)易團(tuán)體SEMI統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示，今年的與會(huì)人數(shù)相對(duì)于去年的30985有明顯的下降。他們同時(shí)強(qiáng)調(diào)，其中的14%的參展者是來自海外。

　　這次展會(huì)提供了1307個(gè)展位，相對(duì)于2011年的1273個(gè)有了小幅度的提高。據(jù)統(tǒng)計(jì)有來自21個(gè)國家690個(gè)公司的人員參加了這次展覽會(huì)，其中還有51個(gè)從未從參加過展覽的與會(huì)者。

　　今年的大會(huì)同樣對(duì)從包裝和收益管理到光刻等所有領(lǐng)域進(jìn)行了一個(gè)精選的技術(shù)簡報(bào)，這一點(diǎn)也在英特爾工程院士Shekhar Borkar、賽靈思首席技術(shù)官Ivo Bolsens 和應(yīng)用材料公司的能源和環(huán)境解決方案業(yè)務(wù)部門的總經(jīng)理Mark Pinto的專題演講中屢屢提到。

　　盡管Intel和ASML因?yàn)楣糏ntel投資光刻工具供應(yīng)商來支持450nm光刻和極端紫外線系統(tǒng)的研發(fā)而引起了軒然大波，但還有其他重要的發(fā)展動(dòng)態(tài)值得我們關(guān)注的。

　　英特爾工程院士Shekhar Borkar，是芯片制造巨人extreme—scale技術(shù)的負(fù)責(zé)人，在7.10的開幕大會(huì)上進(jìn)行了專題演講。Borkar聲稱exascale運(yùn)算將會(huì)在十年內(nèi)實(shí)現(xiàn)，并宣稱除非基本的電源消耗障礙被克服，否則射不能達(dá)到期望的標(biāo)準(zhǔn)。

從觀眾席角度拍的Borkar演講的全景圖