2018年8月21日，“4m量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”項(xiàng)目通過驗(yàn)收。

由中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所（以下簡(jiǎn)稱中科院長(zhǎng)春光機(jī)所）承擔(dān)的國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“4m量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”通過項(xiàng)目驗(yàn)收。中科院長(zhǎng)春光機(jī)所完成了直徑4.03米口徑（公開報(bào)道最大口徑）高精度碳化硅（SiC）非球面反射鏡制造，其核心制造設(shè)備以及制造工藝具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)。該項(xiàng)目的成功研制標(biāo)志著我國(guó)大口徑碳化硅非球面光學(xué)反射鏡制造領(lǐng)域的技術(shù)水平已經(jīng)躋身國(guó)際先進(jìn)行列。

制造業(yè)是國(guó)民經(jīng)濟(jì)的主體，是科技創(chuàng)新的主戰(zhàn)場(chǎng)。改革開放以來，我國(guó)制造業(yè)持續(xù)快速發(fā)展，有力地推動(dòng)了工業(yè)化進(jìn)程，顯著增強(qiáng)了綜合國(guó)力。近年來，創(chuàng)造未來的科技發(fā)展新趨勢(shì)顛覆性技術(shù)層出不窮，將要催生產(chǎn)業(yè)重大變革，成為社會(huì)生產(chǎn)力新飛躍的突破口。

大口徑高精度非球面光學(xué)反射鏡是高分辨率空間對(duì)地觀測(cè)、深空探測(cè)和天文觀測(cè)系統(tǒng)的核心元件，其制造技術(shù)水平對(duì)一個(gè)國(guó)家的國(guó)防安全、國(guó)民經(jīng)濟(jì)建設(shè)、基礎(chǔ)科研能力具有重要意義，也是衡量一個(gè)國(guó)家高性能光學(xué)系統(tǒng)的研制水平的重要標(biāo)志。

碳化硅陶瓷材料是國(guó)際光學(xué)界公認(rèn)的高穩(wěn)定性光學(xué)反射鏡材料，采用碳化硅材料可大幅提高大口徑成像系統(tǒng)的性能。歐美國(guó)家在大口徑碳化硅光學(xué)反射鏡制造技術(shù)方面長(zhǎng)期處于壟斷地位，我國(guó)大口徑光學(xué)制造技術(shù)與世界先進(jìn)水平存在較大差距，發(fā)展大口徑碳化硅光學(xué)制造技術(shù)迫在眉睫。

面向國(guó)家對(duì)大型光學(xué)儀器的戰(zhàn)略需求，迫切需要研制具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“4m量級(jí)高精度碳化硅非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”，2009年底，在中科院和財(cái)政部的策劃支持下，中科院長(zhǎng)春光機(jī)所啟動(dòng)“4m量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”項(xiàng)目，自主研制大口徑高精度非球面反射鏡制造系統(tǒng)，占領(lǐng)國(guó)際高端制造領(lǐng)域的制高點(diǎn)，通過項(xiàng)目前瞻布局必將牽引和帶動(dòng)國(guó)家一系列相關(guān)技術(shù)發(fā)展，項(xiàng)目研究具有重要的科學(xué)價(jià)值和明確的應(yīng)用背景，符合《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要》發(fā)展思路。

中科院長(zhǎng)春光機(jī)所在項(xiàng)目負(fù)責(zé)人張學(xué)軍研究員的帶領(lǐng)下，項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)歷經(jīng)八年技術(shù)攻關(guān)，完成了碳化硅鏡坯制備、非球面加工檢測(cè)、碳化硅表面改性鍍膜的制造設(shè)備研制與制造工藝研究，形成了具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“4m量級(jí)高精度碳化硅非球面集成制造平臺(tái)”，并依托集成制造平臺(tái)完成4m量級(jí)高精度碳化硅非球面產(chǎn)品研制。

大口徑高精度碳化硅非球面反射鏡制造難度極大。其主要關(guān)鍵技術(shù)瓶頸在于碳化硅材料制備、非球面加工檢測(cè)以及高性能改性鍍膜三個(gè)方面。

在碳化硅材料制備技術(shù)方面：由于大口徑碳化硅鏡坯的制備過程伴隨著復(fù)雜的物理相變和化學(xué)反應(yīng)，因此，在此前相當(dāng)長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)，國(guó)際上公認(rèn)1.5米是單體碳化硅反射鏡的極限口徑。項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)經(jīng)歷數(shù)百次實(shí)驗(yàn)探索與工藝驗(yàn)證，刻苦攻關(guān)，突破了系列鏡坯制備關(guān)鍵技術(shù)，建立了大口徑碳化硅鏡坯制造平臺(tái)，并先后研制成功2米、3米單體碳化硅鏡坯、4米口徑整體碳化硅鏡坯（公開報(bào)道最大口徑），標(biāo)志著我國(guó)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了大口徑碳化硅光學(xué)材料已經(jīng)實(shí)現(xiàn)自主可控。

在大口徑碳化硅非球面加工檢測(cè)技術(shù)方面：在國(guó)內(nèi)首次研制成功適用于大口徑碳化硅高精度制造的非球面數(shù)控加工中心，突破大口徑碳化硅非球面高精度高效加工技術(shù)瓶頸，并解決了系列制約大口徑非球面高精度檢測(cè)的關(guān)鍵問題。完成了4m量級(jí)碳化硅非球面高精度加工，加工精度優(yōu)于20nm（RMS值），全面實(shí)現(xiàn)4m量級(jí)碳化硅高精度加工與檢測(cè)技術(shù)自主可控。

在大口徑碳化硅改性鍍膜技術(shù)方面：項(xiàng)目研發(fā)團(tuán)隊(duì)首次研制成功SiC反射鏡改性與反射膜鍍制一體化設(shè)備，具備4m量級(jí)反射鏡改性與鍍膜能力。結(jié)合濺射工藝探索，攻克了改性層應(yīng)力控制、缺陷縮減、均勻性優(yōu)化等技術(shù)難題，首次應(yīng)用磁控濺射技術(shù)完成4m量級(jí)碳化硅表面改性，滿足高質(zhì)量光學(xué)表面的拋光需求；通過磁控濺射工藝多參數(shù)組合優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)4m碳化硅反射鏡表面高反射率薄膜鍍制，可見至長(zhǎng)波紅外全譜段反射率優(yōu)于95%。

“4m量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)”的成功研制，打破了國(guó)外在大口徑非球面制造技術(shù)的壟斷地位，形成了具備自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的4m量級(jí)大口徑反射鏡研制能力，填補(bǔ)了多項(xiàng)國(guó)內(nèi)空白，大幅提升了我國(guó)在高性能大型光學(xué)儀器的研制水平，具有明顯的直接經(jīng)濟(jì)與社會(huì)效益。

由清華大學(xué)金國(guó)藩院士擔(dān)任組長(zhǎng)，其他6名院士以及來自載人航天辦公室、高校專家組成的驗(yàn)收組對(duì)項(xiàng)目的完成給予了高度評(píng)價(jià)，認(rèn)為：項(xiàng)目組完成了4m量級(jí)高精度SiC非球面反射鏡集成制造系統(tǒng)的研制工作，所有技術(shù)指標(biāo)均達(dá)到或優(yōu)于項(xiàng)目批復(fù)的實(shí)施方案規(guī)定的考核指標(biāo)要求，系統(tǒng)性能國(guó)際領(lǐng)先。該項(xiàng)目是我國(guó)在大口徑光學(xué)制造領(lǐng)域的重大技術(shù)突破，形成了大口徑系列反射鏡研制能力，1.5m口徑和2m口徑SiC反射鏡已成功應(yīng)用于國(guó)家重大型號(hào)任務(wù)，4m口徑SiC反射鏡工程產(chǎn)品即將應(yīng)用于國(guó)家地基大型光電系統(tǒng)，也為空間大口徑光學(xué)系統(tǒng)的研制解決了核心技術(shù)難題。

項(xiàng)目的研究成果將應(yīng)用于國(guó)家一系列重大工程項(xiàng)目，對(duì)我國(guó)的基礎(chǔ)科研、防災(zāi)減災(zāi)、公共安全、國(guó)家安全等領(lǐng)域具有重要戰(zhàn)略意義。

4m口徑高精度碳化硅非球面反射鏡 攝影：張譯心