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半導體晶圓制造潔凈廠房的微振控制方案

江蘇泊蘇系統集成有限公司 ? 2025-05-30 16:04 ? 次閱讀

半導體晶圓制造潔凈廠房的微振控制方案-江蘇泊蘇系統集成有限公司

微振控制在現行國家標準《電子工業潔凈廠房設計規范》GB50472中有關微振控制的規定主要有:潔凈廠房的微振控制設施的設計分階段進行,應包括設計、施工和投產等各階段的微振測試、廠房建筑結構微振控制設計、動力設備隔振設計和精密儀器隔振設計等。

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一 對有微振控制要求的潔凈廠房設計時應考慮:

1 在結構選型、隔振縫設置、壁板與地面及頂棚連接處,應按微振控制要求設計。

2 潔凈室與周圍輔助性站房內有強烈振動的設備及其連接管道,應采取主動隔振措施。

3應確定潔凈廠房內外各類振源對潔凈廠房精密設備、精密儀器儀表位置處的綜合振動影響,以決定是否采取被動隔振措施。

二 精密設備、精密儀器儀表的容許振動值,應由生產工藝和設備制造部門提供。當生產工藝和設備制造部門難以提供容許振動值時,可參照《隔振設計規范》GBJ 22執行。

三 精密設備、精密儀器儀表的被動隔振設計應具備下列條件:

1 周圍振源對其綜合影響的振動數據。

2 設備、儀器儀表的型號、規格及輪廓尺寸圖。

3 設備、儀器儀表的質量、質心位置及質量慣性矩。

4 設備、儀器儀表的底座外輪廓圖、附屬裝置、管道位置及坑、溝、孔洞尺寸、地腳螺栓及預埋件位置等。

5設備、儀器儀表的調平要求。

6 設備、儀器儀表的容許振動值。

7 所選用或設計的隔振器或隔振裝置的技術參數、外形尺寸及安裝條件。

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四 精密設備、精密儀器儀表的被動隔振設計應考慮:

1 隔振臺座的剛度。

2 設備、儀器儀表運行時,由于質量及質心位置的變化引起隔振臺座傾斜的校正措施。

3 隔振系統各向阻尼比不應小于0.15。

4 隔振措施不應影響潔凈室內的氣流流型。

五 精密設備、精密儀器儀表的被動隔振措施宜采用能自動校正傾斜的空氣彈簧隔振裝置。對供應空氣彈簧用的氣源應進行凈化處理。

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