來源:《半導體芯科技》雜志文章
近幾十年來,半導體行業取得了巨大進步,在我們的現代世界中發揮著至關重要的作用。濕法工藝設備是生產高質量半導體器件的關鍵部分。AP&S 公司生產濕法工藝系統已有 20 年歷史,這些系統對于晶片的清潔和加工處理是不可或缺的。本文介紹AP&S公司的最新開發成果:用于批量加工的NexAStep 濕式蝕刻清洗系統。
AP&S 攜創新型 NexAStep 濕法蝕刻清洗系統在德國慕尼黑舉辦的半導體展覽會 SEMICON Europa 2023 亮相,吸引了行業的關注,為了幫助客戶應用此最新成果,AP&S 學院同時可以進行相關培訓。
NexAStep 所采用的創新緊湊型系統設計是一項根本性的進步,由于系統占用的空間較小,因此可以優化潔凈室的使用。在模塊占地面積內有效地布置化學品供應、排水、接收罐和控制柜,進一步減少了空間需求,并方便了維護和操作。模塊化工廠設計(modular plant design)可以實現工廠的快速組裝、拆卸和重新配置,從而提高了生產過程中的靈活性。這樣,公司就能在有必要的時候迅速適應市場變化,并在需要時擴大工廠規模以增加產能。
△濕式蝕刻清洗系統 NexAStep - 用于量產濕法加工的新型批量處理工具
位于 NexAStep前端的集成軸最大程度地減少了粒子的產生,并簡化了直接接入(direct access)。在外觀上看,集成在鑲板上的信號燈提供了 180 度的可視性,可以改善接入和安全性。
此外,AP&S 還與其姊妹公司 tepcon GmbH 一起擁有一家軟件公司,協助實現用戶友好型直觀人機界面(HMI)。簡化系統操作、優化監控和有效控制是此處的主要關注點。這確保了高效的過程控制。
tepcon GmbH 總經理 Christoph Kluge 解釋說:“在狀態監測領域,我們的解決方案可以通過表格、圖形或流程圖對實時數據提供可配置的可視化,對極限值進行監測,并通過電子郵件、短信或WhatsApp 及時發出警報。客戶可以隨時隨地通過移動設備靈活地實施干預。能夠實時避免機器故障。通過分析過程數據,可以記錄和跟蹤生產配方。而通過與歷史數據進行比較,則可以發現操作錯誤,從而優化配方工藝并高效地規劃服務調用。”
由于采用自動控制和自動裝載實現了高產能,這也在技術的選擇中起到了重要的作用。通過使用 OHT(Overhead Hoist Transport,高架提升傳輸),可以將該系統集成到現有的復雜工藝鏈中,從而加快晶圓載具的傳輸速度。由此而在濕法工藝系統中形成的集成倉庫(integrated warehouse)具有多達 75 個儲存位置,從而保證了生產流程的連續性。
△多達 75 個儲存位置保證了生產流程的連續性
NexAStep 具有多達 12 個 LMC 晶圓載具,不間斷地提供晶圓,每個載具可容納2×100 片晶圓(8 英寸),因此,支持一種連續和預定的工藝生產流程。這樣,在占地面積不變的情況下,AP&S 將生產量提高了一倍,并顯著降低了總擁有成本(相同的化學成分,生產量提高了一倍)。
△多達 12 個 LMC 晶圓載具,每個載具可容納2×100片晶圓(8英寸),可以實現高效加工處理
AP&S 首席營銷官兼首席技術官Tobias Bausch 表示:“憑借新的 NexAStep 工廠平臺,我們就能夠在一間工廠里將 AP&S 在過去 20年中積累的所有正面經驗與當前的客戶和市場需求結合起來。濕法工藝工廠工程的‘自動化、生產量和功能性’將更上一層樓。能夠在第一批工廠的現場生成數據,并看到新概念為我們和客戶帶來的附加價值,這讓我們充滿自豪感?!?/p>
△高度動態的軸系統,晶片傳輸和快速空運行
未來的濕法工廠將組合使用已有的干燥工藝,如馬蘭戈尼效應(Marangoni effect)和 NID 熱干燥(氮 IPA 蒸汽干燥)工藝。這兩種工藝都是專業干燥方法的范例,已經在各種不同的半導體技術中得到了驗證和應用。為了讓客戶盡可能自由地設計填充和工藝配方,這些工藝可以單獨地精確設置,并根據具體產品進行選擇。
NexAStep 系統的其他創新之處還包括優化了制程處理室的提取,以及由此降低了污染度,且工藝溫度高達170℃,從而提升了加工速度。
△可手動操作和裝載,旨在實現最大的靈活性
總之,這些先進的濕法工藝系統能為半導體行業的客戶帶來顯著的附加值。它們使得半導體組件的生產更高效、更靈活、成本更優化、且自動化程度和質量水平更高,因而有利于技術領域的進一步發展。
這一點正是2023 年 6 月開始掛牌運作的 AP&S 學院同樣支持的。AP&S 學院首席運營官(也是發起人)Tobias Drixler 解釋道:“長期以來,我們一直在客戶的半導體工廠現場成功地舉辦培訓課程。不過,近年來這方面的需求大幅增長。此外,客戶要求建立濕法工藝技術培訓中心的呼聲也越來越高,原因是這樣一來培訓活動就不會影響生產設施的日常運行。這與我們創辦 AP&S 學院的策略可謂不謀而合?!?/p>
Steffen H?lderle(服務主管)和 André Menge(高級服務與培訓主管)頗感驕傲地接受了 AP&S 學院的鑰匙。
△從左到右:總經理 Tobias Drixler(首席運營官),Steffen H?lderle(服務主管)和 André Menge(高級服務與培訓主管)
總經理 Tobias Drixler(首席運營官)認為,培訓中心是一個平臺,可以為新員工和客戶提供個性化和專門的培訓,幫助他們更好地了解機器各自的用途。由于目前技術工人短缺,而且需要對非專業人員進行充分的指導,從而使其具備化學濕法工藝技術方面的資質,因此,人們對此類培訓課程的興趣大增。
有4個培訓模塊,用戶可以連續參加,培訓師由那些既掌握半導體行業的知識、同時又具備教學技能的公司員工擔任。因此,AP&S International GmbH 公司員工20 年來積累的技術訣竅被有針對性地傳授給相關員工,以便通過以實踐為導向的方式教授濕法工藝設備的操作方法。
公司股東兼首席執行官Alexandra Laufer-Müller 指出:“我們的目標是涵蓋前端和后端生產鏈所需的全部濕法工藝解決方案。例如,我們的產品可執行清洗、蝕刻、金屬蝕刻、光刻膠去除(PR strip)、化學鍍、剝離、干燥和顯影工藝等功能。這是開始階段。我們將與客戶一道,不斷開發出色的新型工藝,比如當今市場上獨一無二的 AP&S 金屬剝離工藝。此外,我們還提供手動、半自動和全自動應用程序?!?/p>
審核編輯 黃宇
-
半導體
+關注
關注
335文章
28563瀏覽量
232290 -
蝕刻
+關注
關注
10文章
424瀏覽量
15934 -
晶片
+關注
關注
1文章
406瀏覽量
31916
發布評論請先 登錄
半導體單片清洗機結構組成介紹
晶圓高溫清洗蝕刻工藝介紹
晶圓浸泡式清洗方法
步入式恒溫恒濕試驗箱:工業與科研的環境模擬利器

提升PCBA質量:揭秘濕敏元件的MSL分級與管理
步入式恒溫恒濕室的使用方法和注意事項

小批量SMT貼片加工:為何工程費必不可少?
節能回饋式負載技術創新與發展
玻璃基電路板的蝕刻和側蝕技術
玻璃電路板表面微蝕刻工藝

評論