域的研究開(kāi)發(fā)、工藝優(yōu)化與質(zhì)量監(jiān)控.石墨烯增強(qiáng)生物基凝膠導(dǎo)熱和導(dǎo)電性能研究【1、長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué)化學(xué)與生命科學(xué)學(xué)院2、長(zhǎng)春工業(yè)大學(xué)化學(xué)工程學(xué)院3、
發(fā)表于 05-21 09:54
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? 水凝膠傳感器在柔性傳感特別是醫(yī)療檢測(cè)領(lǐng)域受到了廣泛專(zhuān)注。當(dāng)前水凝膠在機(jī)械和導(dǎo)電性能影響方面往往無(wú)法兼顧,且廢棄后的水凝膠會(huì)作為電子垃圾污染生活環(huán)境。生物質(zhì)材料來(lái)源于自然并且可以重復(fù)
發(fā)表于 04-28 17:26
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水凝膠,作為一種神奇的親水性聚合物材料,能吸收大量水分,呈現(xiàn)出柔軟、透明且富有彈性的凝膠狀。因其獨(dú)特性能,在生物醫(yī)學(xué)、組織工程、藥物輸送、柔性電子等諸多前沿領(lǐng)域展現(xiàn)出巨大應(yīng)用潛力。而深入探究水
發(fā)表于 04-28 10:37
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的重要條件之一,同時(shí)也是用來(lái)衡量水質(zhì)是否受污染的重要指標(biāo)之一。我們可以通過(guò)監(jiān)測(cè)和研究水中溶解氧的多少及其變化規(guī)律來(lái)判斷水體的健康程度以及水體的自?xún)裟芰?。例如,在水質(zhì)監(jiān)測(cè)過(guò)程中,如果溶解氧含量過(guò)高,則會(huì)導(dǎo)致
發(fā)表于 04-21 15:01
個(gè)SiO2薄層。
接下來(lái)進(jìn)行光刻。第一步是在SiO2薄層上均勻涂布正性光刻膠層;第二步是隔著光掩膜版向下面的正性光刻膠層曝光;第三步是對(duì)光刻膠層進(jìn)行定影和后烘固化;第四步是顯影,即腐蝕溶解掉感光區(qū)域
發(fā)表于 04-02 15:59
一種路徑,采用磁集成方法,對(duì)1MHz雙向CLLC變換器的變壓器進(jìn)行研究、設(shè)計(jì)與測(cè)試,通過(guò)優(yōu)化PCB繞線方法、進(jìn)行仿真優(yōu)化,提出了一種分段氣隙的變壓器結(jié)構(gòu),通過(guò)Maxwell瞬態(tài)場(chǎng)、渦流場(chǎng)求解器仿真
發(fā)表于 03-27 13:57
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發(fā)表于 03-10 18:56
Ta2O5/SiO2氧化物DBR?所實(shí)現(xiàn)如圖?7-12,其特點(diǎn)為在共振腔中插入了AlGaN?電流阻擋層且將?ITO?厚度減薄至30奈米。2011年,為了達(dá)到更好的電流局限效果以及降低ITO的吸收,本研究團(tuán)隊(duì)
發(fā)表于 02-19 14:20
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al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999)
仿真結(jié)果與參考文獻(xiàn)的比較
被研究的SiO2層厚度變化為1埃時(shí),?和?的差異。
發(fā)表于 02-05 09:35
本文介紹了SiO2薄膜的刻蝕機(jī)理。 干法刻蝕SiO2的化學(xué)方程式怎么寫(xiě)?刻蝕的過(guò)程是怎么樣的?干法刻氧化硅的化學(xué)方程式? 如上圖,以F系氣體刻蝕為例,反應(yīng)的方程式為: ? SiO2(s)+ CxFy
發(fā)表于 12-02 10:20
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SiO?薄膜在集成電路中扮演著至關(guān)重要的角色,其作用主要包括以下幾個(gè)方面: 絕緣層 :SiO?薄膜作為良好的絕緣材料,被廣泛應(yīng)用于集成電路中作為絕緣層。它能夠有效地隔離金屬互連線和晶體管等器件,防止
發(fā)表于 09-27 10:19
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SiO?薄膜的厚度量測(cè)原理主要基于光的干涉現(xiàn)象。具體來(lái)說(shuō),當(dāng)單色光垂直照射到SiO?薄膜表面時(shí),光波會(huì)在薄膜表面以及薄膜與基底的界面處發(fā)生反射。這兩束反射光在返回的過(guò)程中會(huì)發(fā)生干涉,即相互疊加,產(chǎn)生
發(fā)表于 09-27 10:13
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SiO?膜層鍍膜過(guò)程中出現(xiàn)的膜裂問(wèn)題,可以通過(guò)多種方法來(lái)解決。以下是一些主要的解決策略: 1. 優(yōu)化鍍膜工藝 蒸發(fā)速度控制 :蒸發(fā)速度的設(shè)置對(duì)膜層厚度有直接的影響,進(jìn)而影響膜層的應(yīng)力和均勻性。需要
發(fā)表于 09-27 10:08
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Soundcheck 是聲學(xué)測(cè)試中比較標(biāo)準(zhǔn)化的軟件,有很強(qiáng)的二次開(kāi)發(fā)性,A產(chǎn)品體系下指定的聲學(xué)測(cè)試軟件,涉及到測(cè)試的部分就離不開(kāi)定期的標(biāo)準(zhǔn)品點(diǎn)檢,而聲學(xué)曲線的比對(duì)比常規(guī)的電測(cè)、光學(xué)量測(cè)等的標(biāo)準(zhǔn)品比對(duì)
發(fā)表于 06-27 22:09
。 MOS管的結(jié)構(gòu)特點(diǎn): 基本構(gòu)造:MOS管主要由四部分組成:柵極(Gate)、源極(Source)、漏極(Drain)和基底(Body)。柵極通過(guò)一層薄的氧化物(SiO2)與基底相隔,形成一個(gè)電容結(jié)構(gòu),用以控制流過(guò)器件的電流。
發(fā)表于 06-09 14:24
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評(píng)論