現(xiàn)階段，非線性光學(xué)的研究仍然主要聚焦于非線性光學(xué)材料，這其中又主要包括對已知非線性光學(xué)材料光學(xué)性質(zhì)的進(jìn)一步探究和對新型非線性光學(xué)材料的尋找。

非線性光學(xué)材料種類繁多，根據(jù)材料體系的不同，可以簡單分為有機(jī)、無機(jī)、高分子以及有機(jī)-無機(jī)雜化材料等。根據(jù)非線性光學(xué)現(xiàn)象的不同，又可以分為二階非線性光學(xué)材料和三階非線性光學(xué)材料等。

數(shù)十年來，科研工作者們一直在尋找兼具大的非線性光學(xué)響應(yīng)和亞皮秒的響應(yīng)時(shí)間的優(yōu)良非線性光學(xué)材料。隨著納米科學(xué)的進(jìn)步，以及現(xiàn)代分子技術(shù)和晶體生長技術(shù)的發(fā)展，新的性能優(yōu)異的非線性光學(xué)材料不斷被開發(fā)出來，這又進(jìn)一步推動了光子學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域的進(jìn)步與發(fā)展。

大的非線性光學(xué)響應(yīng)，意味著可以在更短的作用距離上，讓光學(xué)效應(yīng)達(dá)到我們想要實(shí)現(xiàn)的預(yù)期目標(biāo)，這可以幫助光子器件的小型化。更短的響應(yīng)時(shí)間，意味著響應(yīng)更敏感、更及時(shí)，同樣是現(xiàn)代光子器件和光電器件一直以來對非線性光學(xué)材料的要求。

為了符合現(xiàn)代金屬－氧化物－半導(dǎo)體（CMOS）制備工藝的需求，非線性光學(xué)材料還應(yīng)具備與CMOS 工藝良好的兼容性。而不易腐蝕，高硬度及良好的物理和化學(xué)穩(wěn)定性，這些特點(diǎn)同樣是光子學(xué)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)Ψ蔷€性光學(xué)材料的期待。

除了尋找具有優(yōu)異性能的新型非線性光學(xué)材料，對已知非線性光學(xué)材料光學(xué)性質(zhì)的進(jìn)一步探究同樣是非線性光學(xué)研究的一個非常重要的組成部分，后者可以幫助我們加深對非線性光學(xué)現(xiàn)象的進(jìn)一步理解，拓寬非線性光學(xué)材料的使用空間，對應(yīng)用領(lǐng)域進(jìn)行的非線性光學(xué)性能調(diào)制提供直接的幫助，對科研和生產(chǎn)有十分重要的指導(dǎo)意義。

審核編輯：黃飛