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GaN技術(shù):電子領(lǐng)域的下一波浪潮

深圳市浮思特科技有限公司 ? 2023-10-07 11:34 ? 次閱讀

在電子領(lǐng)域,尤其是功率電子領(lǐng)域,一項(xiàng)前沿技術(shù)正逐漸嶄露頭角:氮化鎵(GaN)。荷蘭芯片制造Nexperia 贊助的行業(yè)活動(dòng)吸引了眾多參與者,他們認(rèn)為在汽車、消費(fèi)電子和航空航天等領(lǐng)域,特別是在功率轉(zhuǎn)換等應(yīng)用中,GaN 技術(shù)正迎來(lái)廣泛應(yīng)用的機(jī)會(huì)。

例如,Kubos Semiconductor 公司正在開發(fā)一種名為立方GaN的新材料,這是氮化鎵的立方晶體結(jié)構(gòu)。Kubos 首席執(zhí)行官 Caroline O'Brien 指出:“立方GaN不僅可以在大型晶圓(直徑達(dá)150毫米或更大)上生產(chǎn),還可以擴(kuò)展到更大的晶圓尺寸,而且可以輕松集成到現(xiàn)有的生產(chǎn)線中。”

同時(shí),其他公司也在不斷努力擴(kuò)大寬帶隙(WBG)半導(dǎo)體電源管理領(lǐng)域的應(yīng)用范圍。英國(guó)的電氣化專家Ricardo正在積極利用GaN和碳化硅技術(shù)來(lái)拓展其電力業(yè)務(wù)。

Ricardo公司的首席工程師Temoc Rodriguez指出,特斯拉是第一家在汽車制造中采用碳化硅(SiC)來(lái)替代絕緣柵雙極晶體管IGBT)的汽車制造商,這標(biāo)志著一種趨勢(shì),即更多地使用WBG材料來(lái)提高功率效率、減小功率轉(zhuǎn)換器尺寸和重量。

另一方面,瑞典公司Hexagem的首席執(zhí)行官M(fèi)ikael Bj?rk介紹了他們正在開發(fā)的硅基GaN技術(shù),旨在在成本上更具競(jìng)爭(zhēng)力,同時(shí)在未來(lái)應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)規(guī)模優(yōu)勢(shì)。Bj?rk表示:“我們想辦法使GaN達(dá)到更高的額定電壓。”

Nexperia是這一行業(yè)活動(dòng)的贊助商之一,他們指出每一代新的GaN技術(shù)都在性能方面穩(wěn)步取得進(jìn)展,這些進(jìn)展有可能超越硅技術(shù)目前的成本優(yōu)勢(shì)。支持者認(rèn)為,這些進(jìn)展是因?yàn)樵诠杓夹g(shù)上的漸進(jìn)改進(jìn)已經(jīng)無(wú)法滿足新一代電子器件的需求。

應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

隨著全球?qū)p少二氧化碳排放的壓力不斷增加,各行各業(yè),從汽車到電信,都不得不投資于更高效的電力轉(zhuǎn)換和電氣化。硅基功率半導(dǎo)體技術(shù),如IGBT,存在著工作頻率和速度上的基本限制,同時(shí)在高溫和低電流性能方面表現(xiàn)不佳。高壓硅場(chǎng)效應(yīng)管(Si FET)的頻率和高溫性能同樣受到限制。

這些局限性促使應(yīng)用設(shè)計(jì)人員考慮采用寬帶隙半導(dǎo)體材料,如GaN。

Kubos Semiconductor的O'Brien表示:“隨著設(shè)計(jì)尺寸的減小和效率的提高,我認(rèn)為GaN有望在以前未被廣泛采用的應(yīng)用中嶄露頭角,例如小型基站。對(duì)于較小的系統(tǒng)設(shè)計(jì)來(lái)說(shuō),這是一個(gè)真正的機(jī)會(huì)。”

其中一個(gè)關(guān)鍵特性是GaN的開關(guān)頻率響應(yīng),特別是在高達(dá)5-10千瓦的DC/DC轉(zhuǎn)換器應(yīng)用中。Ricardo公司的Rodriguez補(bǔ)充道:“這標(biāo)志著電信和能源領(lǐng)域的標(biāo)志,同時(shí)還可以考慮在消費(fèi)電子產(chǎn)品中應(yīng)用。有許多以DC/DC轉(zhuǎn)換器為核心的應(yīng)用,可以提高效率并節(jié)省能源。”

除了更高的電壓外,Hexagem的Bj?rk還強(qiáng)調(diào)晶圓尺寸的縮小,同時(shí)優(yōu)化GaN器件的生產(chǎn)以降低成本。Bj?rk預(yù)測(cè):“目前市場(chǎng)定位為150毫米晶圓,但未來(lái)可能擴(kuò)大到200毫米晶圓,甚至可能嘗試300毫米晶圓。”

然而,值得注意的是,雖然硅基GaN技術(shù)是目前應(yīng)用最廣泛的GaN技術(shù)之一,但在器件開發(fā)方面并不是沒有挑戰(zhàn)。

Bj?rk說(shuō):“氮化鎵和硅的晶格常數(shù)非常不同,因此它們不匹配。在將GaN置于硅上之前,您必須生長(zhǎng)出相當(dāng)先進(jìn)的不同層堆疊。當(dāng)你按這個(gè)要求做時(shí),就會(huì)產(chǎn)生很多缺陷和過(guò)早破損的晶圓。另一個(gè)問題是GaN和硅之間的熱膨脹不匹配,當(dāng)你將其加熱到大約1000°C時(shí),當(dāng)你冷卻這兩種材料時(shí),它們會(huì)以不同的速率收縮,最終可能會(huì)破壞結(jié)構(gòu)。”

不過(guò),Nexperia的GaN應(yīng)用總監(jiān)Jim Honea指出,從車載充電器、DC/DC轉(zhuǎn)換器到牽引和輔助逆變器等汽車應(yīng)用都在利用GaN技術(shù)。霍尼亞說(shuō):“電動(dòng)汽車大型電池的開發(fā)正在創(chuàng)造許多過(guò)去沒有人想象到的應(yīng)用。”

此外,Nexperia的Dilder Chowdhury指出,低Qrr或反向恢復(fù)電荷有助于簡(jiǎn)化濾波器設(shè)計(jì),從而提高開關(guān)性能。GaN功率晶體管還可以與常見的柵極驅(qū)動(dòng)電路并聯(lián)使用。然而,高電壓和高開關(guān)頻率仍然是最大的挑戰(zhàn),特別是對(duì)于傳統(tǒng)硅工程師而言。

隨著電動(dòng)汽車制造商尋求提高續(xù)航里程,GaN功率集成電路(IC)作為一種減小尺寸和重量同時(shí)提高效率的方法備受關(guān)注。GaN可用于設(shè)計(jì)比硅基系統(tǒng)小四倍、重量輕四倍的電力電子系統(tǒng),其能量損失與硅基系統(tǒng)相當(dāng)。此外,零反向恢復(fù)電荷可以減少電池充電器和牽引逆變器的開關(guān)損耗,同時(shí)還帶來(lái)更高的開關(guān)頻率和更快的開關(guān)速率等優(yōu)點(diǎn)。

支持者還聲稱,寬帶隙半導(dǎo)體技術(shù)為電源轉(zhuǎn)換設(shè)計(jì)人員提供了提高效率和功率密度的新途徑。與硅器件一樣,單個(gè)GaN器件的電流處理能力仍然有上限,因此常常采用并聯(lián)GaN器件的方法來(lái)優(yōu)化性能。

GaN技術(shù)正在電力電子領(lǐng)域嶄露頭角,受到了廣泛的關(guān)注和投資。這一前沿技術(shù)在汽車、消費(fèi)電子和航空航天等領(lǐng)域,特別是在功率轉(zhuǎn)換應(yīng)用中,展現(xiàn)了巨大的潛力。這將有助于滿足全球減排壓力,推動(dòng)更高效的電力轉(zhuǎn)換和電氣化,為未來(lái)的電子器件設(shè)計(jì)師提供了全新的可能性。

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