不同的LCOS所能調(diào)制的范圍不同，因此在使用之前，需要對(duì)每個(gè)LCOS都進(jìn)行調(diào)制性能的標(biāo)定。主要測(cè)量方法有功率計(jì)探測(cè)法、馬赫—曾德干涉方法、徑向剪切干涉方法、泰曼格林干涉方法、雙孔干涉方法等。下面簡(jiǎn)單介紹幾種。

功率計(jì)直接探測(cè)法

圖1

功率計(jì)直接探測(cè)法的原理圖如圖1所示，激光經(jīng)準(zhǔn)直擴(kuò)束后照射在非偏振分束片上，其中透射光經(jīng)LCOS調(diào)制后反射，反射光經(jīng)反射鏡反射后作為參考光，與待測(cè)的 LCOS調(diào)制后的光發(fā)生干涉后被功率計(jì)接收，記錄光強(qiáng)的變化。測(cè)試方法非常簡(jiǎn)單，但是由于照射光不是嚴(yán)格的平行光，干涉后的光強(qiáng)較難保證完全均勻，導(dǎo)致測(cè)量結(jié)果精度不高，而且得到的相位調(diào)制特性結(jié)果為整個(gè)LCOS液晶層表面的平均結(jié)果，無(wú)法通過(guò)該方法得到液晶層特定表面的調(diào)制結(jié)果。

馬赫-曾德干涉方法

圖2

馬赫-曾德干涉方法原理圖如圖2所示。激光經(jīng)過(guò)第一個(gè)BS后將光分成兩路，一路光由反射鏡反射到第二個(gè)BS，另一路光透過(guò)液晶空間光調(diào)制器發(fā)生調(diào)制后，與參考光干涉。得到的干涉條紋的相對(duì)移動(dòng)量即為液晶空間光調(diào)制器的相位調(diào)制量。馬赫-曾德干涉儀通過(guò)計(jì)算干涉圖的相對(duì)移動(dòng)來(lái)得到液晶空間光調(diào)制器的相位調(diào)制情況。馬赫-曾德干涉基于干涉原理進(jìn)行測(cè)量，但是由于裝置需要的參考光為嚴(yán)格的平面波，對(duì)實(shí)驗(yàn)裝置的穩(wěn)定性要求較高，此外該方法適用于測(cè)量透射式液晶空間光調(diào)制器。

徑向剪切干涉方法

徑向剪切干涉方法工作原理圖如圖3所示，該方法通過(guò)對(duì)液晶空間光調(diào)制器調(diào)制后的波面與本身錯(cuò)位后放大和縮小的波面產(chǎn)生干涉條紋，通過(guò)迭代算法分析得到干涉條紋，以得到液晶空間光調(diào)制器的相位調(diào)制特性。

圖3

在剪切干涉光路中，將放大的波面作為參考光，避免了引入額外參考光所帶來(lái)的誤差，保持了系統(tǒng)的穩(wěn)定性，具有較高的精度。在記錄干涉條紋的過(guò)程中， 針對(duì)整個(gè)波面進(jìn)行記錄，只需要一幅干涉圖即可。但缺點(diǎn)是若放大的波面畸變比較大時(shí)，將無(wú)法被視為平面波，干涉條紋將較為復(fù)雜，不利于后續(xù)的實(shí)驗(yàn)結(jié)果處理。

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許多用于表征和校正像差的算法都基于Zernike多項(xiàng)式。然而，對(duì)圓形孔徑的依賴(lài)不適用于描述正方形或矩形陣列的像差。美國(guó)Meadowlark Optics公司已經(jīng)開(kāi)發(fā)了基于SLM的干涉子孔徑的替代方案，以確保SLM的有效通光區(qū)域上的像差可以被校正到λ/ 40或更好。如下圖所示， 矯正后的MLO空間光調(diào)制器波前像差（波前畸變）變得很低。

a）原始的1920 x 1200像素SLM波前（λ/ 7 RMS）（b）應(yīng)用了像差校正的波前（λ/ 20 RMS）（c）未應(yīng)用校正的像差曲面圖。（d）應(yīng)用校正后的像差曲面圖。

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