EVM是什么?
在星座圖中,會有一個理想的點,然后還有一個實測的點。
就是一個是打算在哪,另一個是實際在哪。
再換句話說,就是一個是理想,一個是現(xiàn)實。
星座圖中的點,其與原點連接的矢量,所對應(yīng)的長度和角度,分別對應(yīng)信號的幅度和相位。
理想點與原點的連接,是一個參考的矢量。
實測點與原點的連接,是一個實測的矢量。
而理想點與原點的連接,就被稱為誤差矢量(error vector)。
和所有矢量一樣,誤差矢量有幅度,有方向。
在數(shù)字調(diào)制中,主要關(guān)注誤差矢量的幅度,不糾結(jié)方向。
因此,最重要的測量目標(biāo),是誤差矢量的幅度,即EVM,全稱為error vector magnitude.
人都知道,理想與現(xiàn)實的差距越小越好。
所以,誤差矢量的幅度,也是越小越好。
那差別主要來自哪里呢?
一個來自幅度誤差(magnitude error),也就是說接收到的矢量與參考的矢量相比,要么太長,要么太短。
一個來自相位誤差(phase error),也就是說接收到的矢量與參考的矢量相比,角度有差。
EVM大,則代表測量點和理想點之間的距離很大。
也就是說理想點A所對應(yīng)的測量點,可能與理想點B的位置更接近。
這樣,會導(dǎo)致接收端誤判的概率提高。
因此,減小EVM,是無線通信系統(tǒng)中的重要目標(biāo)之一。
對EVM造成影響的因素主要有哪些?
影響EVM的因素,可以分為四大類,分別為幅度影響,相位影響,I/Q不平衡,配置因素。
說到幅度影響。
首先,與幅度相關(guān)的因素,都可能會影響EVM。
比如說,信號太高,導(dǎo)致器件進入非線性;或者信號太低,容易受噪聲影響,此時都會增加EVM。
比如說,外界干擾,或者系統(tǒng)內(nèi)的雜散,也會影響EVM。
比如說,相應(yīng)帶寬內(nèi)不平坦的頻率響應(yīng),也可能增加EVM。
.......
說到相位影響。
也就是說,與相位相關(guān)的因素,都會可能影響EVM。
比如說,信號相噪的影響。我的理解是這樣的(歡迎批判):本身相位調(diào)制是基于理想相位的,如果相位噪聲太高的話,理想相位本身就不理想了。
比如說,相位響應(yīng)隨頻率的變化而變化。我的理解是這樣的(歡迎批判):可以理解為群時延隨著頻率的變化有抖動,這樣的話,不同頻率的信號經(jīng)過時,其相位變化也會不一樣,導(dǎo)致EVM增加。
還有就是I/Q不平衡。
比如說增益不平衡,相位不平衡,直流饋通等。
說到配置因素。
就包括發(fā)端和收端,設(shè)置的匹配濾波器的類型或參數(shù),符號率等設(shè)置的有差別。
EVM計算時的注意點
EVM計算時,會歸一化。
有兩種歸一化的方法,一種是用最大峰值功率來歸一化;另一種,是用RMS功率來歸一化。
在比較EVM時,需要保證使用同樣的歸一化方法。
EVM的單位可以是%,也可以是dB。
對于單位為%的EVM值,小的百分比值,表示更好的EVM。
對于單位為dB的EVM值,通常為負(fù)值,越負(fù),EVM越好。
EVM在debug中的作用
重點來了哈!雖然說,我沒有用過這種方法來進行過debug。
但是看上去,好像很好用的樣子。
首先,看看EVM隨時間變化的曲線的作用。
EVM是基于每個符號進行計算的,也就是說,每個符號都會計算EVM。
因此,EVM可以繪制成時間的函數(shù),也可以看成連續(xù)符號的函數(shù)。
比如如下圖,發(fā)送和接收符號率之間細(xì)微的差異,使得EVM隨時間變化的曲線呈現(xiàn)出一個V形曲線。
突發(fā)或者脈沖信號,在開始或結(jié)束的時候,由于各種放大器效應(yīng)或時序的影響,EVM可能會高點。
如果幅度隨時間變化,可能會使得幅度相對較高或者幅度相對較低的符號的EVM變大。
EVM也可以繪制成隨頻率的曲線。
EVM隨頻率變化的函數(shù),是對上面的EVM隨時間變化的函數(shù)進行FFT變換。
而這個曲線最有用的應(yīng)用,是可以發(fā)現(xiàn)帶內(nèi)的雜散信號或者干擾。
如下圖所示,藍(lán)色曲線為幅度譜,看不出任何有雜散信號。青色曲線為EVM譜,上面可以明顯的看到帶內(nèi)雜散性。
這是因為,疊加有雜散信號的有用信號的EVM,只會在雜散頻率處變高。
還有EVM與功率之間的關(guān)系,即看EVM隨著輸入功率變化的函數(shù)。
如下圖所示,曲線為一個浴缸形狀的曲線。低輸入電平時,SNR較小,導(dǎo)致較高的EVM;高輸入電平時,器件進入非線性,EVM也會惡化。
所以,這個EVM與功率的曲線,可以用來確定器件的最優(yōu)工作區(qū)域。
EVM隨功率以及頻率變化的曲線
在三維空間內(nèi),繪制EVM隨功率和頻率變化的曲線,可以很容易的找出被測器件的隨頻率變化趨勢或者問題區(qū)域。
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原文標(biāo)題:Wow~ EVM原來還能助射頻工程師排查出隱形雜散
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