女人自慰AV免费观看内涵网,日韩国产剧情在线观看网址,神马电影网特片网,最新一级电影欧美,在线观看亚洲欧美日韩,黄色视频在线播放免费观看,ABO涨奶期羡澄,第一导航fulione,美女主播操b

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

FDSOI的技術特點及對光刻技術需求

jf_BPGiaoE5 ? 來源:光刻人的世界 ? 2023-06-26 15:26 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

66cad81e-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

66fe707a-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

672a8598-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

675da73e-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

677bf856-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

67a12ed2-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

67d47896-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

67fa86ee-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

6825d7b8-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

6858303c-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

68794b0a-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

68a141e6-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

68e19aac-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

690b53c4-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

69264cec-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

694b429a-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

697167ae-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

69998d60-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

69ccb1ea-10f5-11ee-962d-dac502259ad0.jpg

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 光刻技術
    +關注

    關注

    1

    文章

    151

    瀏覽量

    16195
  • fdsoi
    +關注

    關注

    1

    文章

    6

    瀏覽量

    11122

原文標題:【Study】FinFET和FDSOI的技術特點及對光刻技術需求

文章出處:【微信號:光刻人的世界,微信公眾號:光刻人的世界】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關推薦
    熱點推薦

    微氣泡對光刻膠層的影響

    光刻劑。但重大挑戰仍然存在,部分原因是去除率不足以首先在半導體制造業中使用微氣泡。因此,我們需要通過明確了解微氣泡去除光刻抗蝕劑層的功能機制,來提高微氣泡的去除能力。本研究的目的是闡明微氣泡對光刻膠層表面的影響。
    發表于 01-10 11:37 ?1807次閱讀
    微氣泡<b class='flag-5'>對光刻</b>膠層的影響

    解析LED晶圓激光刻技術

    `一、照明用LED光源照亮未來  隨著市場的持續增長,LED制造業對于產能和成品率的要求變得越來越高。激光加工技術迅速成為LED制造業普遍的工具,甚者成為了高亮度LED晶圓加工的工業標準。  激光刻
    發表于 12-01 11:48

    光刻技術原理及應用

    被顯影液溶解,獲得的圖形與掩模版圖形互補。負性抗蝕劑的附著力強、靈敏度高、顯影條件要求不嚴,適于低集成度的器件的生產。  半導體器件和集成電路對光刻曝光技術提出了越來越高的要求,在單位面積上要求完善傳遞
    發表于 01-12 10:51

    三種常見的光刻技術方法

    三種常見的光刻技術方法根據暴光方法的不同,可以劃分為接觸式光刻,接近式光刻和投影式光刻三種光刻
    發表于 01-12 10:56

    lithography平板印刷技術

    lithography是一種平板印刷技術,在平面光波回路的制作中一直發揮著重要的作用。具體過程如下:首先在二氧化硅為主要成分的芯層材料上面,淀積一層光刻膠;使用掩模版對光刻膠曝光固化,并在
    發表于 08-24 16:39

    光刻機工藝的原理及設備

    量/需求量的上升。  現在所用的193nm光源DUV其實是2000年代就開始使用的了,然而在更短波長光源技術上卡住了,157nm波長的光刻技術其實在2003年就有
    發表于 07-07 14:22

    半導體光刻技術基本原理

    深圳大學現代通信技術測試題目錄簡述1到4G特點(從代表的系統、主要技術及傳輸的指標三方面): 25G的主要KPI指標(列表給出5個) 25G的主要核心技術(給出10個) 35G手機(華
    發表于 07-26 08:31

    國科大《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程分享之二:浸沒式光刻工藝缺陷種類、特征及自識別方法

    中國科學院大學(以下簡稱國科大)微電子學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院,國科大微電子學院開設的《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》課程是國內少有的研究討論光刻技術的研究生課程
    發表于 10-14 09:58

    MEMS工藝(3光刻技術)

    本文提到MEMS技術中所應有的光刻技術,幫助讀者了解光刻技術的原理,應用。
    發表于 04-28 11:35 ?0次下載

    光刻技術的原理和EUV光刻技術前景

    所使用的光刻機的對準套刻精度要達到10nm,其研發和制造原理實際上和傳統的光學光刻在原理上十分相似。對光刻機的研究重點是要求定位要極其快速精密以及逐場調平調焦技術,因為
    的頭像 發表于 06-27 15:43 ?1.3w次閱讀

    淺析光刻技術的原理和EUV光刻技術前景

    光刻是集成電路最重要的加工工藝,他的作用,如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中,幾乎每個工藝的實施,都離不開光刻技術光刻也是制造芯片的最關鍵
    的頭像 發表于 02-25 10:07 ?6552次閱讀

    沉浸式光刻技術是什么 原理是什么

    沉浸式光刻技術是在傳統的光刻技術中,其鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣,而所謂浸入式技術是將空氣介質
    的頭像 發表于 10-13 16:51 ?4164次閱讀

    納米技術對光學和光子技術的影響

    納米技術對光學和光子技術的影響
    的頭像 發表于 12-28 09:51 ?1930次閱讀

    什么是光刻技術

    光刻技術簡單來講,就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程,是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術,CPU所謂30nm
    的頭像 發表于 04-25 11:02 ?4211次閱讀
    什么是<b class='flag-5'>光刻</b><b class='flag-5'>技術</b>

    3D IC對光刻技術的新技術要求

    中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解,本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中,除
    的頭像 發表于 06-30 10:06 ?592次閱讀
    3D IC<b class='flag-5'>對光刻</b><b class='flag-5'>技術</b>的新<b class='flag-5'>技術</b>要求