防范性維護(hù)是良好晶圓廠(chǎng)管理與安全的理念支柱. 刻蝕和沉積設(shè)備需要定期脫機(jī)進(jìn)行深度清潔和/或打開(kāi)工藝室進(jìn)行部件更換. 考慮到沉積或蝕刻工藝設(shè)備的每小時(shí)折舊和生產(chǎn)損失可能輕易超過(guò) 1000美元/小時(shí), 減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間是至關(guān)重要的. 但是, 考慮到許多工具都有高度腐蝕性的清潔氣體或工藝副產(chǎn)物氣體, 如 HCl, NF3, HBr, HF, F, Cl, 如何安全地停機(jī)維護(hù)是一個(gè)挑戰(zhàn).

問(wèn)題
在打開(kāi)腔室進(jìn)行日常維護(hù)之前, 需要安全地消除腔室內(nèi)的工藝副產(chǎn)品或清潔循環(huán)中的殘留工藝氣體, 然而,挑戰(zhàn)在于如何確保腔室在打開(kāi)之前是安全的并且沒(méi)有有害殘留氣體. 已知的一個(gè)方法, 確保工藝室不含有害殘留氣體（包括由表面去吸收產(chǎn)生的殘留氣體）的方法是運(yùn)行（過(guò)長(zhǎng)）長(zhǎng)壓力循環(huán)吹掃氣體. 在沒(méi)有計(jì)量或反饋的情況下, 吹掃周期需要足夠長(zhǎng)以確保腔室沒(méi)有有害物質(zhì), 這會(huì)導(dǎo)致效率低下, 周期長(zhǎng)和設(shè)備停機(jī)時(shí)間長(zhǎng). 由于靈敏度和等離子體可用性的問(wèn)題, 不能使用常見(jiàn)的計(jì)量解決方案, 例如光學(xué)發(fā)射光譜. 傳統(tǒng)的殘余氣體分析儀在腐蝕性氣體環(huán)境中工作時(shí)面臨挑戰(zhàn), 這可能導(dǎo)致電子沖擊燈絲在長(zhǎng)吹掃周期中腐蝕和故障.

上海伯東日本 Atonarp Aston? 質(zhì)譜分析儀減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間解決方案
Aston 原位質(zhì)譜儀可以進(jìn)行快速, 化學(xué)特異性原位定量氣體分析, 以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確和快速的腔室吹掃終點(diǎn)檢測(cè). 與典型的基于時(shí)間的清洗程序相比, 這可以節(jié)省大量的設(shè)備停機(jī)時(shí)間。 由于 Aston? 質(zhì)譜分析儀可用于加速泄漏檢測(cè)和腔室老化到已知良好腔室化學(xué)指征, 因此可以實(shí)現(xiàn)清潔后的進(jìn)一步停機(jī).在不需要等離子體的情況下, 每秒可以采集數(shù)十個(gè)樣本, 靈敏度低至 <100 PPB（十億分之幾）水平. 除了基于燈絲的電子碰撞電離源外, Aston Plasma 還提供內(nèi)部等離子電離能力. 雙電離源支持較寬的工藝壓力范圍, 等離子電離允許分析較高壓力下的苛刻氣體, 而不會(huì)出現(xiàn)殘留氣體分析儀中常見(jiàn)的燈絲腐蝕問(wèn)題.

通過(guò)減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間和重新調(diào)試, 可以在不到 12 個(gè)月內(nèi)實(shí)現(xiàn)回報(bào), 此外, Aston? 質(zhì)譜分析儀還為現(xiàn)場(chǎng)過(guò)程監(jiān)控和管理提供了價(jià)值優(yōu)勢(shì).

Aston? 質(zhì)譜分析儀是一種具有成本效益的解決方案, 可在日常維護(hù)和后續(xù)維護(hù)后投產(chǎn)調(diào)試前實(shí)現(xiàn)快速的腔室清洗. 除了 Aston ? 在沉積和蝕刻過(guò)程控制中提供的過(guò)程監(jiān)控優(yōu)勢(shì)外, 還可以通過(guò)原位測(cè)量靈敏度和速度來(lái)顯著減少設(shè)備停機(jī)時(shí)間.

審核編輯黃宇