1.化學(xué)清洗—【Chemical Clean】

　　為得到良好質(zhì)量的蝕刻圖形，就要確?？刮g層與基板表面牢固的結(jié)合，要求基板表面無氧化層、油污、灰塵、指印以及其他的污物。因此在涂布抗蝕層前首先要對板進(jìn)行表面清洗并使銅箔表面達(dá)到一定的粗化層度。

　　內(nèi)層板材：開始做四層板，內(nèi)層(第二層和第三層)是必須先做的。內(nèi)層板材是由玻璃纖維和環(huán)氧樹脂基復(fù)合在上下表面的銅薄板。

　　2.裁板壓膜—【Cut Sheet Dry Film Lamination】

　　涂光刻膠：為了在內(nèi)層板材作出我們需要的形狀，我們首先在內(nèi)層板材上貼上干膜(光刻膠，光致抗蝕劑)。干膜是由聚酯簿膜，光致抗蝕膜及聚乙烯保護(hù)膜三部分組成的。貼膜時，先從干膜上剝下聚乙烯保護(hù)膜，然后在加熱加壓的條件下將干膜粘貼在銅面上。

　　3.曝光和顯影-【Image Expose】【Image Develop】

　　曝光：在紫外光的照射下，光引發(fā)劑吸收了光能分解成游離基，游離基再引發(fā)光聚合單體產(chǎn)生聚合交聯(lián)反應(yīng)，反應(yīng)后形成不溶于稀堿溶液的高分子結(jié)構(gòu)。聚合反應(yīng)還要持續(xù)一段時間，為保證工藝的穩(wěn)定性，曝光后不要立即撕去聚酯膜，應(yīng)停留15分鐘以上，以時聚合反應(yīng)繼續(xù)進(jìn)行，顯影前撕去聚酯膜。

　　顯影：感光膜中未曝光部分的活性基團(tuán)與稀堿溶液反應(yīng)生產(chǎn)可溶性物質(zhì)而溶解下來，留下已感光交聯(lián)固化的圖形部分。

　　4.蝕刻-【Copper Etch】

　　在撓性印制板或印制板的生產(chǎn)過程中，以化學(xué)反應(yīng)方法將不要部分的銅箔予以去除，使之形成所需的回路圖形，光刻膠下方的銅是被保留下來不受蝕刻的影響的。

　　5.去膜，蝕后沖孔，AOI檢查，氧化

　　【Strip Resist】【Post Etch Punch】【AOI Inspection】【Oxide】

　　去膜的目的是清除蝕刻后板面留存的抗蝕層使下面的銅箔暴露出來?！澳ぴ边^濾以及廢液回收則須妥善處理。如果去膜后的水洗能完全清洗干凈，則可以考慮不做酸洗。板面清洗后最后要完全干燥，避免水份殘留。

　　6.疊板-保護(hù)膜膠片【Layup with prepreg】

　　進(jìn)壓合機之前,需將各多層板使用原料準(zhǔn)備好,以便疊板(Lay-up)作業(yè).除已氧化處理之內(nèi)層外,尚需保護(hù)膜膠片(Prepreg)-環(huán)氧樹脂浸漬玻璃纖維。疊片的作用是按一定的次序?qū)⒏灿斜Ｗo(hù)膜的板子疊放以來并置于二層鋼板之間。

　　7.疊板-銅箔和真空層壓

　　【Layup with copper foil】【Vacuum Lamination Press】

　　銅箔-給目前的內(nèi)層板材再在兩側(cè)都覆蓋一層銅箔，然后進(jìn)行多層加壓(在固定的時間內(nèi)需要測量溫度和壓力的擠壓)完成后冷卻到室溫，剩下的就是一個多層合在一起的板材了。

　　8.CNC鉆孔【CNC Drill】

　　在內(nèi)層精確的條件下，數(shù)控鉆孔根據(jù)模式鉆孔。鉆孔精度要求很高，以確?？资窃谡_位置。

　　9.電鍍-通孔【Electroless Copper】

　　為了使通孔能在各層之間導(dǎo)通(使孔壁上之非導(dǎo)體部份之樹脂及玻纖束進(jìn)行金屬化)，在孔中必須填充銅。第一步是在孔中鍍薄薄一層銅，這個過程完全是化學(xué)反應(yīng)。最終鍍的銅厚為50英寸的百萬分之一。

　　10.裁板壓膜【Cut Sheet】【Dry Film Lamination】

　　涂光刻膠：我們有一次在外層涂光刻膠。

　　11.曝光和顯影-【Image Expose】【Image Develop】

　　外層曝光和顯影

　　12.線路電鍍：【Copper Pattern Electro Plating】

　　此次也成為二次鍍銅，主要目的是加厚線路銅和通孔銅厚。