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      標簽　>　euv

      euv

      +關(guān)注8人關(guān)注

      EUV光刻技術(shù) - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術(shù) – 原來是預計在2012年左右投產(chǎn)。但是幾年過去了，EUV已經(jīng)遇到了一些延遲，將技術(shù)從一個節(jié)點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術(shù)的技術(shù)應用，EUV光刻機的技術(shù)、市場問題，國產(chǎn)euv光刻機發(fā)展等內(nèi)容。

      文章：595個 瀏覽：86933次 帖子：0個

      euv資訊

      關(guān)于EUV光刻機的缺貨問題

      關(guān)于EUV光刻機的缺貨問題

      臺積電和三星從7nm工藝節(jié)點就開始應用EUV光刻層了，并且在隨后的工藝迭代中，逐步增加半導體制造過程中的EUV光刻層數(shù)。

      2022-05-13 標簽：光刻機EUV三星 2679 0

      曝Intel已從今年8月份開始訂購用于7nmEUV工藝節(jié)點的材料和設(shè)備 數(shù)據(jù)中心GPU或首發(fā)

      Intel 10nm處理器已經(jīng)量產(chǎn)發(fā)售，明年預計會在市場上井噴，推出桌面CPU等產(chǎn)品。

      2019-09-21 標簽：gpuintelEUV 2679 0

      長鑫存儲首次公開亮相談DARM技術(shù)的未來

      在談到DRAM技術(shù)未來的發(fā)展時，平博士首先強調(diào)，DRAM是有它的極限的。我們通過改進，可以將極限推遲。如導入EUV及HKMG三極管以縮小線寬及加強外圍電...

      2019-09-19 標簽：EUV長鑫存儲 2678 0

      ASML在未來將如何持續(xù)推動半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展

      AI、5G應用推動芯片微縮化，要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造，半導體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應用...

      2019-08-27 標簽：半導體EUVASML 2674 0

      半導體產(chǎn)業(yè)競速:Hyper-NA EUV光刻機挑戰(zhàn)與機遇并存

      在科技日新月異的今天，半導體產(chǎn)業(yè)作為信息技術(shù)的基石，正以前所未有的速度向前躍進。隨著人工智能、汽車電子等新興產(chǎn)業(yè)的蓬勃發(fā)展，對芯片制造技術(shù)的要求也日益嚴...

      2024-07-03 標簽：半導體光刻機EUV 2673 0

      為對抗三星臺積電搶吃EUV商機_臺積大聯(lián)盟成軍了

      為對抗三星，臺積電計劃導入極紫外光(EUV)微影設(shè)備，決定在7納米強化版提供客戶設(shè)計、并在5納米全數(shù)導入。這項決定引發(fā)群聚效應，激勵相關(guān)設(shè)備供應鏈和材料...

      2018-06-17 標簽：臺積電euv 2659 0

      ASML承諾對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度

      ASML承諾對向中國出口集成電路光刻機持開放態(tài)度

      2020-11-06 標簽：光刻機EUVASML 2647 0

      DRAM大廠工藝推進1z納米 導入EUV設(shè)備擴大競爭門檻

      2019年上半DRAM價格下跌壓力沉重，盡管上游產(chǎn)能調(diào)節(jié)以及傳統(tǒng)旺季拉貨需求逐漸回升，預料將有望支撐跌價趨緩，為了提高生產(chǎn)效益及拉大競爭差距，DRAM大...

      2019-06-21 標簽：DRAMEUV 2639 0

      出貨100萬 三星業(yè)界首款EUV DRAM推出

      三星電子（Samsung Electronics）今天宣布，已經(jīng)出貨100萬業(yè)界首款10nm EUV級（D1x）DDR4 DRAM模組。新的基于EUV的...

      2020-03-25 標簽：DRAMEUV 2635 0

      EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠

      EUV微影技術(shù)7nm制程正在接近 5nm制程還比較遙遠

      EUV被認為是推動半導體產(chǎn)業(yè)制造更小芯片的重要里程碑，但是根據(jù)目前的EUV微影技術(shù)發(fā)展進程來看，10奈米（nm）和7nm制程節(jié)點已經(jīng)準備就緒，就是5nm...

      2018-01-24 標簽：英特爾三星電子euv 2634 0

      EUV設(shè)備讓摩爾定律再延伸三代工藝 但需克服諸多挑戰(zhàn)

      臺積電近日宣布，已經(jīng)開始了7nm+ EUV工藝的大規(guī)模量產(chǎn)，這是該公司乃至整個半導體產(chǎn)業(yè)首個商用EUV極紫外光刻技術(shù)的工藝。作為EUV設(shè)備唯一提供商，市...

      2019-10-17 標簽：臺積電摩爾定律EUV 2626 0

      2納米即將進入下世代的埃米（angstorm）時代布局

      英特爾今年初宣布已率先向 ASML 購買業(yè)界首臺 High-NA 量產(chǎn)型 EUV 設(shè)備 EXE:5200，其為首款具備 High-NA 的 EUV 大量...

      2022-06-22 標簽：臺積電EUVASML 2613 0

      ASML最新一代EUV光刻生產(chǎn)效率增加18%

      本土晶圓代工企業(yè)崛起之際，設(shè)備進口議題備受關(guān)注。光刻機龍頭ASML近日表示，從荷蘭向中國出口DUV光刻機無需許可證。

      2020-10-16 標簽：EUVASML 2611 0

      EUV光刻機全球出貨量達57臺

      EUV光刻機全球出貨量達57臺

      與此同時， 他指出，EUV繼續(xù)為ASML的客戶提高產(chǎn)量，迄今為止，他們的客戶已經(jīng)使用EUV光刻機曝光了超過1100萬個EUV晶圓，并交付了57個3400...

      2020-08-14 標簽：晶圓光刻機EUV 2607 0

      三星FinFET制程被判侵權(quán)，將賠償4億美元

      韓國三星為了多元化營收來源，這兩年晶圓代工業(yè)務(wù)為重點發(fā)展項目，2018年率先推出7納米EUV制程，搶在臺積電、格羅方德與英特爾之前推出。但三星如今似乎“...

      2018-06-20 標簽：三星電子finfeteuv 2605 0

      三星今年9月份將完成7nmEUV工藝生產(chǎn)線 明年1月份量產(chǎn)

      隨著NVIDIA宣布7nm GPU由三星代工，三星在晶圓代工市場上總算又拉來一個客戶，如果算上之前的IBM Power 10以及傳聞中的高通驍龍865訂...

      2019-07-04 標簽：三星電子臺積電EUV 2599 0

      ASML三季度凈銷售額同比增長32.6% 最新EUV光刻機擬明年發(fā)貨

      10月14日，光刻機制造商ASML發(fā)布三季度的財報。公司第三季度凈銷售額為39.58億歐元，同比增長32.6%；凈利潤為10.62億歐元，同比增長29....

      2020-10-15 標簽：EUVASML 2588 0

      三星宣布全球首座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠開始量產(chǎn)

      三星宣布，位于韓國京畿道華城市的V1工廠已經(jīng)開始量產(chǎn)7nm 7LPP、6nm 6LPP工藝，這也是全球第一座專門為EUV極紫外光刻工藝打造的代工廠。

      2020-02-21 標簽：三星電子EUV 2567 0

      半導體測試設(shè)備商Lasertec支持EUV測試設(shè)備的需求正在擴大

      日本半導體測試設(shè)備廠商Lasertec正在借助占世界最大份額的EUV（極紫外）測試設(shè)備持續(xù)增長。極紫外光刻機生產(chǎn)的半導體有望實現(xiàn)量產(chǎn)，支持極紫外的測試設(shè)...

      2021-01-25 標簽：測試半導體晶圓 2565 0

      非蔡司不可？EUV***背后的光學系統(tǒng)

      非蔡司不可？EUV***背后的光學系統(tǒng)

      電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）光刻系統(tǒng)利用光線在晶圓上創(chuàng)建數(shù)十億個微小的結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)組成在一起就成了集成電路。但芯片制造商為了讓更多結(jié)構(gòu)集成在單個芯片...

      2023-07-14 標簽：EUV 2564 0

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        7nm
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