MCU批量生產下載程序的幾種常見方法
2023-10-24 17:22:46
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光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得的分辨率直接相關，而減小照射光源的波長是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:1524 
線路板的光刻技術
2023-09-21 10:20:34202 
1.電機啟動的五種常見方式 ①.星三角降壓啟動：正常運行為三角形接法的電動機，在啟動時將定子繞組接成星形，可以降低啟動電流。
2023-09-14 11:28:40235 
COD即化學需氧量，是指水中的還原性物質在強氧化劑的作用下，發生氧化還原反應時消耗氧的量。測定COD的主要方法有重鉻酸鉀法、高錳酸鉀法、庫侖法、催化快速法、節能加熱法、比色法和紫外吸收法。 重鉻酸鉀
2023-09-12 09:10:19471 
方法其實有很多，但基本原理都是在指定存儲區域（Flash）中寫入軟件版本信息，這里講述其中一種比較常見的方法。
2023-09-11 09:32:1189 
光刻是一種圖像復制技術，是集成電路工藝中至關重要的一項工藝。簡單地說，光刻類似照相復制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護下對硅片進行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:53581 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
在本文中，我將介紹處理空閑總線條件的兩種常見方法，以便保證總線上的邏輯狀態。
2023-07-04 11:30:16666 
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中，除教師系統地講授
2023-06-30 10:06:02131 
中國科學院大學集成電路學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院。為了提高學生對先進光刻技術的理解，本學期集成電路學院開設了《集成電路先進光刻技術與版圖設計優化》研討課。在授課過程中，除教師系統地講授
2023-06-29 10:02:17161 
市面上很多基于單片機的產品都具有在線或離線升級功能，為了防止升級過程出現意外，一般我們都會對Flash程序數據進行校驗，常見的就是添加 CRC 校驗信息。
2023-05-19 10:49:191077 
SIP是一種源于互聯網的IP語音會話控制協議，具有靈活、易于實現、便于擴展等特點，最常見的用途之一是互聯網通信。由于SIP比傳統的電話系統便宜得多，因此該技術為連接到公用電話交換網（PSTN）提供了很好的替代方案。
2023-05-19 10:42:03356 EUV光刻技術仍被認為是實現半導體行業持續創新的關鍵途徑。隨著技術的不斷發展和成熟，預計EUV光刻將在未來繼續推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041286 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:03697 光刻技術簡單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規模集成電路的基礎。目前市場上主流技術是193nm沉浸式光刻技術，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:321324 
光刻技術是將掩模中的幾何形狀的圖案轉移到覆蓋在半導體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:13691 
箱式變壓器是工業、礦山、建筑等各個領域中常見的基礎設施，作為電力系統中不可缺少的設備之一，需要定期進行保養與維護，以確保其正常、安全、穩定地運行。以下是箱式變壓器保養的常見方法：
2023-04-19 14:45:51737 逆變器的維護對于不同的元器件有不同的維護方法，所以維護時需要不同的維護工具，只能掌握一些電子線路上的基本技能。然而，在部件修復之前，檢測故障點是一個非常復雜的過程。
2023-03-24 14:11:166836 GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍 NVIDIA cuLitho的計算光刻庫可以將計算光刻技術提速40倍。這對于半導體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377287 
用于集成電路制造的光刻機有兩種：半導體光刻機和光學（光刻）光刻機。下面將分別介紹這兩種光刻機的相關知識。半導體光刻機是根據芯片制造的工藝和設備來劃分的，可以分為：193納米濕法光刻、 DUV、 ArF+ ALD等技術路線，以及傳統的干法光刻等技術路線。
2023-03-03 11:36:546651 光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。其中光刻系統被稱為光刻機，帶有圖形的石英板稱為掩膜，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。
2023-02-08 14:58:333240 隨著表面貼裝技術的引人，電路板的封裝密度飛速增加。因此，即使對于密度不高、一般數量的電路板，電路板的自動檢測不但是基本的，而且也是經濟的。在復雜的電路板檢測中，兩種常見的方法是針床測試法和雙探針或飛
2023-02-02 18:31:061477 導讀：光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。光刻是制造芯片的最關鍵技術，在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。 光刻機的工作原理： 利用光刻
2022-12-23 13:34:546622 前烘就是在一定溫度下，使膠膜里的溶劑緩慢地揮發出來，使膠膜干燥，并增加其粘附性和耐磨性。
2022-12-16 11:55:181793 對于光刻機難道我們真就毫無還手之力了？其實也不見得，華為最新的專利端上來了，看看這道硬菜。日前，華為一項名為“反射鏡、光刻裝置及其控制方法”的新專利公開，專利申請
2022-11-21 15:10:072470 
光刻是半導體工業的核心技術。自1960年Fairchild Semiconductor的羅伯特·諾伊斯發明單片集成電路以來，光刻一直是主要的光刻技術。
2022-11-14 11:36:461920 計算光刻 (Computational Lithography)技術是指利用計算機輔助技術來增強光刻工藝中圖形轉移保真度的一種方法，它是分辦率增強技術(ResolutionEnhancement
2022-10-26 15:46:221935 產生量子糾纏的設備通常體積龐大，且每次只能產生一對糾纏光子。現在，科學家們發明了一種厚度約為一便士三分之一的裝置，它不僅可以成對產生復雜的糾纏光子網，還可以將多對糾纏光子連在一起。本發明不僅可以大大簡化量子技術所需的設置，而且有助于支持更復雜的量子應用。
2022-10-18 16:52:023233 光刻是半導體工藝中最關鍵的步驟之一。EUV是當今半導體行業最熱門的關鍵詞，也是光刻技術。為了更好地理解 EUV 是什么，讓我們仔細看看光刻技術。
2022-10-18 12:54:052736 傳統的光刻工藝是相對目前已經或尚未應用于集成電路產業的先進光刻工藝而言的，普遍認為 193nm 波長的 ArF 深紫外光刻工藝是分水嶺（見下表）。這是因為 193nm 的光刻依靠浸沒式和多重曝光技術的支撐，可以滿足從 0.13um至7nm 共9個技術節點的光刻需要。
2022-10-18 11:20:2912687 沉浸式光刻技術是在傳統的光刻技術中，其鏡頭與光刻膠之間的介質是空氣，而所謂浸入式技術是將空氣介質換成液體。實際上，浸入式技術利用光通過液體介質后光源波長縮短來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質的折射率。
2022-10-13 16:51:382506 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光。
2022-09-13 11:00:214726 PCBA工廠確保采購物料原裝的常見方法是先核驗供應商的資質，然后讓供應商提供欲采購物料的原廠授權證明。在收到物料后讓倉管仔細檢查核對，避免收到氧化料、老料、型號參數不對的物料。
2022-08-20 12:09:59698 根據所使用的輻射，有不同類型的光刻方法用于曝光的:光刻(光刻)、電子束光刻、x射線光刻、光刻和離子束光刻。在光學光刻技術中，有部分不透明和部分不透明的圖案掩模(光片)半透明區域被使用。紫外線輻射或氣體激光的照射以1:1的比例完成或者以4:1或10:1的比例減少。
2022-07-27 16:54:532708 
從 2D 擴展到異構集成和 3D 封裝對于提高半導體器件性能變得越來越重要。近年來，先進封裝技術的復雜性和可變性都在增加，以支持更廣泛的設備和應用。在本文中，我們研究了傳統光刻方法在先進封裝中的局限性，并評估了一種用于后端光刻的新型無掩模曝光。
2022-07-26 10:42:12887 壓印光刻是許多新興應用的關鍵技術，例如微光學、增強現實、MEMS和光電傳感器;但它是什么以及它是如何工作的?
2022-07-25 16:15:071054 
與此同時，在ASML看來，下一代高NA EUV光刻機為光刻膠再度帶來了挑戰，更少的隨機效應、更高的分辨率和更薄的厚度。首先傳統的正膠和負膠肯定是沒法用了，DUV光刻機上常用的化學放大光刻膠（CAR）也開始在5nm之后的分辨率和敏感度上出現瓶頸
2022-07-22 10:40:081783 PCB檢測用以提高產品生產良率的幾種檢查方法
2022-07-15 14:15:314142 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機，是大規模集成電路生產的核心設備，對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢？ EUV
2022-07-10 15:28:1014121 目前，光刻機主要分為EUV光刻機和DUV光刻機。DUV是深紫外線，EUV是非常深的紫外線。DUV使用的是極紫外光刻技術，EUV使用的是深紫外光刻技術。EUV為先進工藝芯片光刻的發展方向。那么duv
2022-07-10 14:53:1075655 3C周邊配件常見方案簡述，可提供部分設計資料，也可以幫忙審核部分資源等。
2022-05-05 14:05:481520 
本發明涉及一種去除光刻膠的方法，更詳細地說，是一種半導體制造用光刻膠去除方法，該方法適合于在半導體裝置的制造過程中進行吹掃以去除光刻膠。在半導體裝置的制造工藝中，將殘留在晶片上的光刻膠，在H2O
2022-04-13 13:56:42712 
平版印刷術被定義為“一種從已經準備好的平坦表面(如光滑的石頭或金屬板)印刷的方法，以便油墨僅粘附在將要印刷的設計上”。在半導體器件制造中，石頭是硅片，而墨水是沉積、光刻和蝕刻工藝的綜合效果，從而產生
2022-03-14 15:20:531611 
軟件代碼有bug，可以通過人工查找，也可以通過編譯發現，同時也可以通過代碼靜態分析工具找到錯誤或警告。
2022-03-10 17:55:132230 Futurrex,成立于1985年，位總部設在美國新澤西州，富蘭克林市。 公司業務范圍覆蓋北美、亞太以及歐洲。Futurrex在開發最高端產品方面已經有很長的歷史，尤其是其光刻
2010-04-21 10:57:46
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2021-04-09 08:44:21
9 5nm光刻技術與ASML光刻機有何區別？ EUV光刻機產能如何？ 大飛_6g（聽友） 請問謝博士，EUV光刻機的產能是怎樣的？比如用最先進的光刻機，滿負荷生產手機芯片麒麟990，每天能產多少片？中芯國際有多少臺投入生產的光刻機？是1臺、5臺還是10臺呢？謝謝 謝志
2021-03-14 09:46:3023048 隨著表面貼裝技術的引人，電路板的封裝密度飛速增加。因此，即使對于密度不高、一般數量的電路板，電路板的自動檢測不但是基本的，而且也是經濟的。在復雜的電路板檢測中，兩種常見的方法是針床測試法和雙探針或飛針測試法。
2020-12-17 15:48:0014 是如何一步一步變成了芯片制造的卡脖子技術？本文試圖一探究竟。 光刻技術是利用光學和化學反應的原理，以及利用化學和物理的刻蝕方法，把電路圖形制作到半導體基片、或者下一層介質材料之上，經過有序的多次光刻工序疊加，
2020-12-04 15:45:284938 近兩年來，芯片制造成為了半導體行業發展的焦點。芯片制造離不開光刻機，而光刻技術則是光刻機發展的重要推動力。在過去數十載的發展中，光刻技術也衍生了多個分支，除了光刻機外，還包括光源、光學元件、光刻膠等材料設備，也形成了極高的技術壁壘和錯綜復雜的產業版圖。
2020-11-27 16:03:3618314 作為光刻工藝中最重要設備之一，光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況是十分重要的。 光刻機 光刻機（Mask
2020-08-28 14:39:0411220 
光刻是指利用光學復制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上，然后通過刻蝕的方法將圖形轉移到晶圓片上來制作電子電路的技術。
2020-08-13 15:09:2217158 
光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-12-21 09:58:4019373 LED電子顯示屏很重要的組成部分就有LED單元板，如果單元板有問題，會直接影響LED顯示屏的整體質量！所以，如何辨別LED單元板的好壞是LED顯示屏商家關心的問題，下面整理了一些檢測LED單元板的常見方法。
2019-05-04 17:31:003048 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-03-03 10:00:313864 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。
2019-03-02 09:41:2910877 光刻是集成電路最重要的加工工藝，他的作用，如同金工車間中車床的作用。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻的技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，他占芯片制造成本的35%以上。在如今的科技與社會發展中，光刻技術的增長，直接關系到大型計算機的運作等高科技領域。
2019-02-25 10:07:535619 光刻技術是包含光刻機、掩模、光刻材料等一系列技術，涉及光、機、電、物理、化學、材料等多個研究方向。目前科學家正在探索更短波長的F2激光（波長為157納米）光刻技術。由于大量的光吸收，獲得用于光刻系統
2019-01-02 16:32:2322173 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-06-27 15:43:5011578 光刻技術是集成電路最重要的加工工藝。在整個芯片制造工藝中，幾乎每個工藝的實施，都離不開光刻技術。光刻也是制造芯片的最關鍵技術，占芯片制造成本的35%以上。
2018-04-22 17:54:003010 光學光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規模集成電路器件的結構圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發生化學反應，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統能獲得
2018-04-17 16:07:4133297 本文提到MEMS技術中所應有的光刻技術，幫助讀者了解光刻技術的原理，應用。
2016-04-28 11:35:3210 光耦隔離的4種常見方法對比
2012-05-31 11:06:35130218 
隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小，光刻技術和光刻設備發生著顯著變化。通過對目前國內外光刻設備生產廠商對下一代光刻技術的開發及目前已經應用到先進生產線上
2011-10-31 16:38:1769 簡單的說用一定波長的波刻蝕材料就是光刻技術,集成電路制造中利用光學- 化學反應原理和化學、物理刻蝕方法，將電路圖形傳遞到單晶表面或介質層上，形成有效圖形窗口或功能圖形
2011-09-05 11:25:085199 擺脫光刻技術的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸入式光刻技術仍然遠遠領先。業界一度認為193nm浸入式光刻會在32nm遭遇極限
2011-03-21 10:00:332363 
光刻膠與光刻工藝技術 微電路的制造需要把在數量上精確控制的雜質引入到硅襯底上的微小 區域內,然后把這些區域連起來以形成器件和VLSI電路.確定這些區域圖形 的工藝是由光刻來完成的,也就是說,首先在硅片上旋轉涂覆光刻膠,再將 其曝露于某種光源下,如紫外光,
2011-03-09 16:43:21127
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